HMDS預處理高溫烘箱
產(chǎn)品用途:該產(chǎn)品主要用于半導體行業(yè)，HMDS預處理系統通過(guò)對烘箱HMDS預處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
一、產(chǎn)品規格：
型號：BD/HMDS-6090 內形尺寸：450×450×450
型號：BD/HMDS-6210 內形尺寸：560×640×600
二、 技術(shù)參數：
1、控溫范圍：RT+10～250℃
2、溫度分辨率：0.1℃
3、溫度波動(dòng)度：±1℃
4、達到真空度：小于133Pa
5、真空度：100Pa～100000Pa
6、定時(shí)范圍：1～9999min
7、工作室材料：316L
8、樣品架：2塊、3塊
9、真空泵：4L/S
10、電源電壓：220V/50Hz、380V/50Hz三相五線(xiàn)制
11、總功率：3000W、4500W
三、產(chǎn)品特點(diǎn)：
1、外殼采用冷軋鋼板制造，表面靜電噴塑。內膽、樣品機、連接管路均采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼316L材料制成；加熱器均勻分布在內膽外壁四周，內膽內無(wú)任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、雙層玻璃門(mén)觀(guān)察工作室內物體一目了然。
2、箱門(mén)閉合松緊能調節，整體成型的硅橡膠門(mén)封圈，確保箱內高真空度。
3、HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設計，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。
四、HMDS預處理系統操作流程：
1、首先確定烘箱工作溫度；
2、預處理程序為：打開(kāi)真空泵抽真空，待腔內真牢度達到某一高真空度后，開(kāi)始充入氮氣，充到達到某低真空度后，再次進(jìn)行抽真空、充入氮氣的過(guò)程，到達設定的充入氮氣次數后，開(kāi)始保持一段時(shí)間，使硅片充分受熱，減少硅片表面的水分;
3、再次開(kāi)始抽真空，充入HMDS氣體，在到達設定時(shí)間后，停止充入HMDS藥液，進(jìn)入保持階段，使硅片充分與HMDS反應;
4、當達到設定的保持時(shí)間后，再次開(kāi)始抽真空。充入氮氣，完成整個(gè)作業(yè)過(guò)程。
五、控制系統：
1、7.0英寸維綸彩色觸摸屏，三菱PLC控制器；
2、富士微電腦雙數顯溫度PID控制器，控溫精確可靠；
六、保護系統：
1、漏電保護；
2、超溫保護；
3、缺液保護；
七、設備使用條件：
1、環(huán)境溫度：5℃～＋28℃（24小時(shí)內平均溫度≤28℃）
2、環(huán)境濕度：≤85%R.H
3、操作環(huán)境需要室內通風(fēng)良好,機器放置前后左右各80公分不可放置東西;
八、HMDS預處理高溫烘箱服務(wù)承諾：
保修十二個(gè)月，免費送貨上門(mén),在對該設備安裝調試結束后,在用戶(hù)現場(chǎng)對相關(guān)技術(shù)人員免費做相應的操作培訓,人數不限。
