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聯(lián)系我時(shí)，請告知來(lái)自 紡織服裝機械網(wǎng)Aerotech qnp2 雙軸三軸壓電納米定位平臺詳細介紹
Aerotech qnp2 雙軸壓電納米定位平臺
關(guān)鍵詞：納米定位平臺/壓電平臺/壓電雙軸定位平臺
Aerotech qnp2 雙軸三軸壓電納米定位平臺詳細介紹
Aerotech qnp2 雙軸壓電納米定位平臺
關(guān)鍵詞：納米定位平臺/壓電平臺/壓電雙軸定位平臺
QNP2系列XY并聯(lián)運動(dòng)壓電定位平臺在緊湊，小巧的封裝中結合了亞納米級分辨率，高動(dòng)態(tài)性能和出色的幾何性能。QNP2系列壓電平臺具有大的，清晰的孔徑，閉環(huán)行程可達200 ?m x 200 ?m（開(kāi)環(huán)行程為240 ?m x 240 ?m）。該設計非常適合光學(xué)顯微鏡，掃描探針顯微鏡，X射線(xiàn)透射顯微鏡或需要兩側零件訪(fǎng)問(wèn)的其他檢查或制造應用。
XY雙軸壓電陶瓷平臺：
· 移至240 ?m x 240 ?m
· 大方形透明光圈，70 mm x 70 mm
· 通過(guò)并聯(lián)運動(dòng)設計實(shí)現出色的多軸精度
· 高剛度和動(dòng)態(tài)特性，可實(shí)現高工藝產(chǎn)量
· 高精度，無(wú)摩擦的撓性導向
· 正在申請的設計提供了的幾何性能
· 設備壽命長(cháng)
· 具有直接計量電容傳感器的出色定位分辨率和線(xiàn)性度
· 開(kāi)環(huán)和真空版本
Mechanical Specifications
Model | QNP2-100XYA-030 | QNP2-100XYA-100 | QNP2-150XYA-200 | |
Closed-Loop Travel (X x Y) | 30 μm x 30 μm | 100 ?m x 100 ?m | 200 ?m x 200 ?m | |
Open-Loop Travel, -30 to +150 V(1) | 36 μm x 36 μm | 120 ?m x 120 ?m | 240 ?m x 240 ?m | |
Resolution(2) | Closed-Loop | 0.1 nm | 0.30 nm | 0.40 nm |
Open-Loop | 0.03 nm | 0.15 nm | 0.20 nm | |
Linearity(3,4) | 0.02% | 0.01% | 0.01% | |
Bidirectional Repeatability(5) | 4 nm | 1 nm | 1 nm | |
Straightness | 25 nm | 10 nm | 10 nm | |
2D Flatness (Over Full XY Travel) | 15 nm | 5 nm | 15 nm | |
Pitch | 5 μrad (1 arc sec) | 1.5 ?rad (0.3 arc sec) | 1.5 ?rad (0.3 arc sec) | |
Yaw | 5 μrad (1 arc sec) | 12 ?rad (2.5 arc sec) | 20 urad (4 arc sec) | |
Stiffness (in direction of motion)(6) | 33 N/μm | 2.1 N/?m | 1.7 N/?m | |
Unloaded Resonant Frequency(6) | 2400 Hz | 565 Hz | 375 Hz | |
Resonant Frequency (200 gram load)(6) | 1725 Hz | 380 Hz | 290 Hz | |
Max Payload(7) | 1 kg | 1 kg | 3 kg | |
Maximum Acceleration (Unloaded)(8) | 400 m/s2 | 170 m/s2 | 40 m/s2 | |
Moving Mass (Unloaded) | 0.14 kg | 0.14 kg | 0.5 kg | |
Stage Mass | 0.36 kg | 0.48 kg | 1.2 kg | |
Material | Anodized aluminum(9) | Anodized aluminum(9) | Anodized aluminum(9) | |
MTBF (Mean Time Between Failure) | 30,000 hours | 30,000 hours | 30,000 hours | |
XYZ雙軸壓電陶瓷平臺：
QNP3系列XYZ并聯(lián)運動(dòng)壓電定位平臺在緊湊的小尺寸封裝中結合了亞納米分辨率，高動(dòng)態(tài)特性和出色的幾何性能。QNP3系列壓電平臺具有大的，清晰的孔徑，閉環(huán)行程可達200 ?m x 200 ?m x 20 ?m（開(kāi)環(huán)行程為240 ?m x 240 ?m x 25 ?m）。該設計非常適合光學(xué)和掃描探針顯微鏡或其他檢查或制造應用，這些應用需要通過(guò)三個(gè)DoF操作來(lái)進(jìn)行兩側零件的訪(fǎng)問(wèn)。
· 移至240μmx 240μmx 25μm
· 大方形透明光圈，可達66 mm x 66 mm
· 通過(guò)平行運動(dòng)設計實(shí)現出色的多軸精度
· 高剛度和動(dòng)態(tài)特性，可實(shí)現高工藝產(chǎn)量
· 高精度，無(wú)摩擦的撓性導向
· 正在申請的設計提供了的幾何性能
· 設備壽命長(cháng)
· 具有直接計量電容傳感器的出色定位分辨率和線(xiàn)性度
· 開(kāi)環(huán)和真空版本
· 
Model | QNP3-100XYAZ-030-10 | QNP3-100XYAZ-100-10 | QNP3-150XYAZ-200-20 | |
Closed-Loop Travel (X x Y x Z) | 30 μm x 30 μm x 10 μm | 100 ?m x 100 ?m x 10 ?m | 200 um x 200 um x 20 um | |
Open-Loop Travel, -30 to +150 V(1) | 36 μm x 36 μm x 12 μm | 120 ?m x 120 ?m x 12 ?m | 240 um x 240 um x 25 um | |
Resolution(2) | Closed-Loop | 0.1 nm (XY); 0.15 nm (Z) | 0.30 nm (XY); 0.15 nm (Z) | 0.4 nm (XY), 0.15 nm (Z) |
Open-Loop | 0.03 nm (XY); 0.05 nm (Z) | 0.15 nm (XY); 0.05 nm (Z) | 0.2 nm (XY), 0.1 nm (Z) | |
Linearity(3,4) | 0.02% (XY); 0.04% (Z) | 0.01% (XY); 0.02% (Z) | 0.01% (XY); 0.02% (Z) | |
Bidirectional Repeatability(5) | 4 nm (XY); 3 nm (Z) | 2 nm (XY); 1 nm (Z) | 2 nm (XY); 2 nm (Z) | |
Straightness | 25 nm (XY); 50 nm (Z) | <10 nm (XY); <20 nm (Z) | 10 nm (XY); 40 nm (Z) | |
2D Flatness (Over Full XY Travel) | 10 nm | <5 nm | <10 nm | |
Pitch | 10 μrad (2.1 arc sec) (XY) 6 μrad (1.2 arc sec) (Z) | 2 ?rad (0.4 arc sec) (XY); 6 ?rad (1.2 arc sec) (Z) | 2 urad (0.4 arcsec) (XY); 6 urad (1.2 arcsec) (Z) | |
Yaw | 5 μrad (1 arc sec) (XY) 5 μrad (1 arc sec) (Z) | 10 ?rad (2.1 arc sec) (XY); 5 ?rad (1 arc sec) (Z) | 20 urad (4 arcsec) (XY); 6 urad (1.2 arcsec) (Z) | |
Stiffness (in direction of motion)(6) | 10 N/μm (XY); 25 N/μm (Z) | 1.9 N/?m (XY); 13 N/?m (Z) | 1.3 N/?m (XY); 8.7 N/um (Z) | |
Unloaded Resonant Frequency(6) | 1850 Hz (XY); 2200 Hz (Z) | 490 Hz (XY); 1425 Hz (Z) | 330 Hz (XY); 910 Hz (Z) | |
Resonant Frequency (200 gram load)(6) | 950 Hz (XY); 1390 Hz (Z) | 350 Hz (XY); 910 Hz (Z) | 260 Hz (XY); 670 Hz (Z) | |
Max Payload(7) | 1 kg | 1 kg | 3 kg | |
Max Acceleration (Unloaded)(8) | 400 m/s2 (XY); 2000 m/s2 (Z) | 115 m/s2 (XY); 2000 m/s2 (Z) | 35 m/s2 (XY); 1000 m/s2 | |
Moving Mass (Unloaded) | 0.24 kg (XY); 0.05 kg (Z) | 0.21 kg (XY); 0.05 kg (Z) | 0.58 kg (XY); 0.10 kg | |
Stage Mass | 0.53 kg | 0.56 kg | 1.3 kg | |
Material | Anodized aluminum(9) | Anodized aluminum(9) | Anodized aluminum(9) | |
MTBF (Mean Time Between Failure) | 30,000 Hours | 30,000 Hours | 30,000 Hours | |
精密并聯(lián)運動(dòng)設計
QNP2壓電位移臺采用平行運動(dòng)的彎曲和計量設計，可確保水平的多軸精度。借助經(jīng)過(guò)FEA優(yōu)化的精密撓曲，以確保高剛度和長(cháng)使用壽命，QNP2位移臺具有的剛度和共振頻率，從而實(shí)現了高工藝通量和快速的閉環(huán)響應。
使用正在申請的驅動(dòng)器設計，可將偏航誤差小化，同時(shí)仍保持符合Abbe標準的計量系統。這種設計可在整個(gè)XY行程空間內實(shí)現的定位性能。
亞納米性能
所有QNP2壓電級均可提供閉環(huán)反饋（-C）或開(kāi)環(huán)（無(wú)反饋）。*的電容傳感器并行測量設計可測量定位支架的輸出，直接實(shí)現亞納米分辨率，低于0.01％的線(xiàn)性誤差和一位數納米可重復性。
超精密控制
與Aerotech的Q系列控制器和驅動(dòng)器配合使用時(shí)，QNP2位移臺具有亞納米級的定位分辨率，在位穩定性（抖動(dòng)）和高定位帶寬。諸如Aerotech的Dynamic Controls Toolbox和Motion Designer軟件包之類(lèi)的軟件選件提供了許多*而易于使用的工具，例如Learning Control，Harmonic Cancellation和Command Shaping，從而改善了跟蹤誤差并縮短了分步和穩定時(shí)間。還提供OEM驅動(dòng)器選件。Aerotech的控制器架構可輕松實(shí)現壓電平臺，伺服系統，步進(jìn)器和振鏡之間的高速，嚴格控制的協(xié)調運動(dòng)。
設計方案
可選的安裝板可直接安裝到英制或公制面包板光學(xué)平臺上。固態(tài)桌面選項也是可用的。QNP2壓電平臺可根據要求提供定制材料和真空制備版本。
高控科技 張巨鵬 1-8-5-0-6-2-3-6-5-8-8、1-8-5-1-8-5-5-6-5-8-8
Aerotech qnp2 雙軸三軸壓電納米定位平臺
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