南京崛宇精密儀器有限公司
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南京崛宇精密儀器有限公司
| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號EVO10
品 牌
廠(chǎng)商性質(zhì)其他
所 在 地南京市
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更新時(shí)間：2024-01-12 16:39:42瀏覽次數：171次
聯(lián)系我時(shí)，請告知來(lái)自 紡織服裝機械網(wǎng)蔡司EVO系列模塊化的SEM平臺適用于直觀(guān)操作、例行檢測和研究應用EVO系列將高性能的掃描電鏡和直觀(guān)的、友好的用戶(hù)界面體驗結合在一起，同時(shí)能夠吸引經(jīng)驗豐富的用戶(hù)以及新用戶(hù)
蔡司 EVO 系列
＞ 顯微鏡中心或工業(yè)質(zhì)量保證實(shí)驗室的多功能解決方案
＞ 不同的真空室大小和可滿(mǎn)足所有應用要求的載物臺選項-甚至是大型工業(yè)零部件樣品
＞ 使用LaB6燈絲，能夠得到優(yōu)異的圖像質(zhì)量
＞ 對不導電和無(wú)導電涂層的樣品的成像和分析性能出色
＞ 可以配置多種分析探測器用于滿(mǎn)足各種顯微分析應用的需求
SmartSEM Touch可以通過(guò)使用您的指尖與其進(jìn)行交互式工作流程控制。它簡(jiǎn)單易學(xué)， 大大減少了培訓所付出的努力和成本，甚至新用戶(hù)在幾分鐘內也能夠捕捉令人驚嘆的圖像。此用戶(hù)界面還支持需要自動(dòng)化工作流程以執行可重復檢查任務(wù)的工業(yè)操作員。
EVO 擅長(cháng)于對未經(jīng)處理和沒(méi)有導電涂層的樣品獲取高質(zhì)量的數據。EVO 還允許樣品保留其原始狀態(tài)， 維持含水和重污染樣品的數據質(zhì)量。此外當成像和微量分析面臨挑戰時(shí)，選用LaB6燈絲則能夠給予更好的分辨率、 對比度和信噪比。
EVO可以作為半自動(dòng)、多模式工作流程的一部分，通過(guò)重新定位感興趣區域，并以多種方式收集數據，形成信息的完整性。將光學(xué)和電子顯微鏡圖像合并起來(lái)進(jìn)行材料表征或零件檢驗，或者將 EVO 與蔡司光學(xué)顯微鏡相關(guān)聯(lián)，進(jìn)行關(guān)聯(lián)顆粒度分析。
在實(shí)際的實(shí)驗室環(huán)境中，SEM 的操作通常是顯微鏡專(zhuān)家的專(zhuān)屬領(lǐng)域。但是對于非專(zhuān)家級用戶(hù)來(lái)說(shuō)，操作SEM就變得具有挑戰，比如學(xué)生、受訓者或質(zhì)量工程師，他們往往也需要從 SEM獲取數據。 EVO 則同時(shí)考慮了這兩類(lèi)用戶(hù)的需求，用戶(hù)界面選項既能滿(mǎn)足有經(jīng)驗的顯微鏡專(zhuān)家也能滿(mǎn)足非專(zhuān)業(yè)用戶(hù)的操作需要。
專(zhuān)家用戶(hù)可以獲取以及設定高級的成像參數和分析功能。
SmartSEM: 為有經(jīng)驗用戶(hù)使用的控制界面
▲新手用戶(hù)
新手用戶(hù)可以使用預定義的工作流程和常用的一些參數-非常適合初學(xué)者。
SmartSEM Touch: 是一款在觸摸屏電腦上運行的簡(jiǎn)化圖形用戶(hù)界面
智能導航與成像
相機可以安裝在倉室前方， 以監測樣品與背散射探測器以及物鏡底端之間的相對位置(倉室相機)；或安裝在真空室倉門(mén)上方 (導航相機)， 利用俯視圖查看樣品臺上樣品的擺放位置。此視圖可用于設置從光學(xué)顯微鏡圖像中識別出的預定義位置， 并在整個(gè)樣品測試過(guò)程中輕松導航。
EVO實(shí)現了對樣品批量自動(dòng)、無(wú)人值守的圖像采集。蔡司自動(dòng)化智能成像非常適合例行檢測。它使用戶(hù)能夠自定義邊界區域，自動(dòng)生成所需的視圖或放大倍數確定的感興趣區域，并開(kāi)始自動(dòng)獲取圖像。自動(dòng)化智能成像將大大提高樣品的測試效率，以及更多的數據產(chǎn)出。
六硼化鑭陰極相較于傳統的鎢發(fā)夾燈絲所發(fā)射的電子能夠保證您額外所需要的圖像質(zhì)量。這種優(yōu)勢體現在以下兩個(gè)方面:
＞ 在相等電子探針尺寸 (即分辨率) 下， 有更多探針電流可供使用， 從而使圖像導航和優(yōu)化更容易
＞ 在相等的探針電流 (信噪比) 下， 光斑直徑要小得多， 從而提高了圖像分辨率
EVO 能夠與其它設備相關(guān)聯(lián)
▲Shuttle & Find 將EVO、光學(xué)顯微鏡和數碼顯微鏡組成一個(gè)關(guān)聯(lián)的、多模態(tài)工作流程
由于蔡司是各種類(lèi)型顯微鏡和計量系統的優(yōu)秀供應商， 所以您還可以將EVO 與蔡司其它解決方案相結合，使其功能能夠發(fā)揮得更好。
通過(guò)使用Shuttle & Find（蔡司關(guān)聯(lián)顯微鏡的軟硬件部分），您可以在（數碼）光學(xué)顯微鏡和 EVO 之間建立一個(gè)高效的多模式聯(lián)用的工作流程。將光學(xué)顯微鏡的光學(xué)對比方法與同樣的掃描電鏡成像和分析方法相結合， 獲得互補的數據， 從而更清楚地去了解樣品的材料、質(zhì)量或失效機理。
德國蔡司ZEISS鎢燈絲掃描電子顯微鏡 型號：EVO 10
EVO系列電鏡是高性能、功能強大的高分辨應用型掃描電子顯微鏡。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術(shù)級的物鏡設計，提供高低真空成像功能，可對各種材料表面作分析，并且具有業(yè)界的X射線(xiàn)分析技術(shù)。革命性的Beamsleeve的設計，確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像，同時(shí)還可以進(jìn)行準確的能譜分析。樣品臺為五軸全自動(dòng)控制。標準的高效率無(wú)油渦輪分子泵能夠滿(mǎn)足快速的樣品更換和無(wú)污染(免維護)成像分析。
掃描電鏡(SEM)廣泛地應用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀(guān)形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀(guān)察，材料斷口分析和失效分析，材料實(shí)時(shí)微區成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線(xiàn)掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。
鎢燈絲掃描電子顯微鏡EV0 10技術(shù)參數
1、光學(xué)系統
1.1、發(fā)射源：鎢燈絲?？蛇x擇普通燈絲或預對中式燈絲。具有自動(dòng)電子槍啟動(dòng)，自動(dòng)對中，自動(dòng)選擇電子槍偏壓功能。
1.2、聚焦：具有手動(dòng)及自動(dòng)聚焦功能。
1.3、光闌：三級可調物鏡光闌，能快速對光闌孔定位，并可作電子束自動(dòng)對中。
1.4、加速電壓：0.2 - 30kV，10V步進(jìn)連續可調。
1.5、電子束位移：±20µm。
1.6、放大倍數：7 - 1,000,000×
1.7、分辨率：3.0nm @ 30kV（SE）
8.0nm @ 3kV（SE）
1.8、探針電流范圍：0.5 pA - 5 μA，連續可調。
2、真空系統
2.1、真空泵系統：渦輪分子泵+機械泵，不需要冷卻水。
2.2、真空度：真空度：優(yōu)于2×10-4Pa；
2.3、抽真空時(shí)間：小于3分鐘。
3、樣品室
3.1、樣品室類(lèi)型：高剛性、圓形、厚壁，大樣品室。
3.2、樣品室內部尺寸：310mm（φ）×220mm（h）。
3.3、可放置的樣品尺寸：直徑230mm，高度100mm
3.4、允許樣品重量：不小于5kg。
3.5、樣品臺移動(dòng)方式：5軸電動(dòng)計算機優(yōu)中心。
3.6、樣品臺移動(dòng)范圍：X=80mm, Y=100mm, Z=35mm, T= -10° - 90°, R =360°。
3.7、樣品臺具有接觸報警與自動(dòng)停止功能。
3.8、具備樣品位置感知功能。
3.9、X射線(xiàn)分析條件：出射角 35度；
4.0、分析工作距離：8.5 – 20 mm。
4、探測、成像系統
4.1、高真空二次電子探測器。
4.2、背散射電子探測器（選配）。
4.3、具有X射線(xiàn)能譜儀接口。
4.4、探測器成像模式：同時(shí)對二次電子和背散射電子成像，可用分屏方式同時(shí)顯示兩種圖像，并可在一種圖像中任意位置顯示另外一種圖像。
4.5、掃描方式：全屏、選區、定點(diǎn)、線(xiàn)掃描、線(xiàn)輪廓、掃描旋轉、傾斜補償。
4.6、整機系統控制要求獨立控制單元，為檢修提供方便。
4.7、圖像解析度：32k x 24k像素（）。
4.8、圖像控制：電子光學(xué)性能與易用性相結合的OptiBeam模式（分辨率模式、景深模式、分析模式、視場(chǎng)模式）。
4.9、操作系統：Windows 7，靈活易用的SmartSEM掃描電鏡操作控制軟件。
4.10、顯示器：24" TFT
可選附件
電鏡可選附件用于增強和拓展電子顯微鏡功能，具體產(chǎn)品涵蓋了從樣品制備到成像、分析等所有步驟的需求。應用范圍包括材料科學(xué)、生命科學(xué)、地球物理學(xué)、電子學(xué)，能源科學(xué)等領(lǐng)域。
| 產(chǎn)品類(lèi)別 | 產(chǎn)品名稱(chēng) | 產(chǎn)品簡(jiǎn)介 |
| 分析設備 | 能譜儀 | 檢測特征X射線(xiàn)能量，稱(chēng)為能量色散譜儀（Energy Dispersive Spectroscopy），簡(jiǎn)稱(chēng)能譜儀（EDS）。主要是對材料微區化學(xué)成分進(jìn)行定性及定量分析，可以用于金屬、高分子、陶瓷、混凝土、生物、礦物、纖維等無(wú)機或有機固體材料分析等。例如：在掃描電鏡下可以結合夾雜物形態(tài)及成分進(jìn)行分析；固體材料的表面涂層、鍍層進(jìn)行分析；結合EBSD對未知材料進(jìn)行相鑒定等。 |
| 波譜儀 | 利用晶體衍射分光檢測感興趣的特征X射線(xiàn)波長(cháng)，稱(chēng)為波長(cháng)色散譜儀(Wavelength Dispersive Spectroscopy)，簡(jiǎn)稱(chēng)波譜儀（WDS）。與能譜儀相比，波譜儀的能量分辨率更高，可以將能量非常接近的譜線(xiàn)區分開(kāi)，同時(shí)具有更低的元素檢測限，可檢測元素含量至0.1‰。 | |
| 背散射電子衍射探測器 | 電子背散射衍射（Electron Backscatter Diffraction，簡(jiǎn)稱(chēng)EBSD）技術(shù)，是基于掃描電鏡中電子束在傾斜樣品表面激發(fā)形成的衍射菊池帶的分析，從而確定晶體結構、取向、晶界類(lèi)型、微織構組成及應變分布等相關(guān)信息，是快速而準確的獲得晶體取向信息的強有力的分析工具。EBSD技術(shù)可用于各種晶體材料——金屬、陶瓷、半導體、地質(zhì)、礦石的分析，結合形貌、能譜信息，可以解決其在形變、再結晶、相變、斷裂、腐蝕過(guò)程的問(wèn)題。 | |
| 加熱臺 | 掃描電鏡高溫加熱臺可以動(dòng)態(tài)地觀(guān)察溫度變化時(shí)材料微觀(guān)組織、結構的變化及失效分析，通入氣體可進(jìn)行高溫氣體反應的觀(guān)察，結合EBSD可進(jìn)行不同溫度下原位EBSD實(shí)驗，用于觀(guān)察晶體材料的相變過(guò)程、再結晶形核及長(cháng)大過(guò)程、晶界處的變化等。Gatan系列的加熱臺具有溫度精度高、穩定性好、結構緊湊、樣品座方便拆卸等優(yōu)點(diǎn)。被廣泛應用于液晶檢測、半導體、高分子材料、流體包裹體、生物工程等眾多領(lǐng)域，在冶金材料領(lǐng)域，結合EBSD進(jìn)行再結晶及相變過(guò)程的觀(guān)察等。 | |
| 冷凍臺 | 低溫氮氣制冷樣品臺模塊，可安裝在現有的SEM 樣品臺上。廣泛應用于：電子束敏感材料-如高分子、地質(zhì)樣品、低溫冷卻后可做微量分析；半導體材料及超導材料-研究低溫相及性能；陰極發(fā)光及EBIC應用。 |
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