萊特萊德北京水處理設備公司
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聯(lián)系我時(shí)，請告知來(lái)自 紡織服裝機械網(wǎng)電子芯片清洗用超純水設備-50T/H
一、電子芯片清洗用超純水設備-50T/H概述
電子芯片清洗用超純水設備-50T/H的產(chǎn)水量是每小時(shí)50噸，出水水質(zhì)滿(mǎn)足工業(yè)清洗行業(yè)用水要求。電子芯片清洗用超純水設備主要由超濾設備、反滲透設備、離子交換設備、EDI裝置等組合而成。
二、電子芯片清洗用超純水設備-50T/H的優(yōu)勢分析
1、工藝的設計細微周到，元件的材質(zhì)、性能、設計的流量、流速、壓力等均符合國家的標準規范及國外材料商的規定要求。
2、制水過(guò)程高度自動(dòng)化，自動(dòng)進(jìn)水，自動(dòng)制水，純水箱滿(mǎn)水自動(dòng)停機，用水后自動(dòng)恢復，可實(shí)現無(wú)人值守的運行。
3、可選用可編程控制(PLC)，計算機觸摸屏控制，遠程數據采集及監控等*技術(shù)，使產(chǎn)品更具現代化特色。
三、電子芯片清洗用超純水設備-50T/H的工藝流程
1、采用兩級反滲透方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→級反滲透 →PH調節→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)。
2、采用EDI方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)。
3、采用離子交換方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→陽(yáng)樹(shù)脂過(guò)濾床→陰樹(shù)脂過(guò)濾床→陰陽(yáng)樹(shù)脂混床→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)。
四、電子芯片清洗用超純水設備-50T/H的技術(shù)指標
(1) 脫鹽率大于99.9%，效率遠遠高于兩級反滲透和單純的離子交換。
(2) 較傳統的離子交換法脫鹽節約樹(shù)脂95%以上。
(3) 離子交換樹(shù)脂不需使用酸堿再生，節約大量酸堿和清洗用水，降低勞動(dòng)強度。
(4) 清潔生產(chǎn)，無(wú)廢水處理問(wèn)題，利于環(huán)保。
(5) 自動(dòng)化程度高，易維護，可設計成完善的膜技術(shù)高純水生產(chǎn)線(xiàn)。
(6) 產(chǎn)水電阻率15-18MΩ.cm，pH 6.5-7.0，硅<1.0ppb，無(wú)菌。
(7) 占地面積小，單一系統連續運轉，不需建設備用系統。
五、電子芯片清洗用超純水設備-50T/H的水質(zhì)指標
| 型號 | 電阻率 | 氧化矽 | 重金屬 | KMnO4 | 鈉 | 氨 | 微生物 | PH值 |
| CAP-Ⅰ | ≥10 | 0.01 | 0.01 | 60 | 0.1 | 0.1 | 微少 | 6-7 |
| CAP-Ⅱ | 0.5 | 0.01 | 0.01 | 60 | 0.01 | 0.01 | 微少 | 6-7 |
| CAP-Ⅲ | 0.2 | 0.01 | 0.01 | 60 | 0.1 | 0.1 | 微少 | 6-7 |
| NCCLS | ≥10 | 0.05 | —— | —— | —— | —— | 10 | —— |
電子芯片清洗用超純水設備運行穩定，耗能低，產(chǎn)水水質(zhì)符合國家相關(guān)水質(zhì)標準。萊特萊德作為專(zhuān)業(yè)的水處理設備生產(chǎn)廠(chǎng)家，我們生產(chǎn)的超純水設備具有專(zhuān)業(yè)的技術(shù)優(yōu)勢和可靠性。萊特萊德是集設計、制造、銷(xiāo)售于一體的大型水處理生產(chǎn)廠(chǎng)家，我們售后服務(wù)好，品質(zhì)有保證，歡迎廣大用戶(hù)光臨選購。
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