3噸/小時(shí)二級反滲透純凈水設備主要用途
1、制取電子工業(yè)生產(chǎn)如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線(xiàn)路板、計算機硬盤(pán)、集成電路?芯片、單晶硅半導體等工藝所需的純水、高純水。
2、制取熱力、火力發(fā)電鍋爐,廠(chǎng)礦企業(yè)中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水。
3、制取醫藥工業(yè)所需的科研大輸液、注射劑、藥劑、生化制品純水、科研無(wú)菌水及人工腎透析用純水等。
4、制取飲料(含酒類(lèi))行業(yè)的飲用純凈水、蒸餾水、礦泉水,酒類(lèi)釀造水和勾兌用純水。
5、海水、苦咸水制取生活用水及飲用水。
6、制取電鍍工藝用去離子水;電池(蓄電池)生產(chǎn)工藝的純水;汽車(chē)、家用電器、建材產(chǎn)品表面涂裝、清洗沌水;鍍膜玻璃用純水;紡織印染工藝所需的除硬除鹽水。
7、石油化工業(yè)如化工反應冷卻水;化學(xué)藥劑、化肥及精細化工、化妝品制造過(guò)程用工藝。
8、賓館、樓宇、社區機場(chǎng)房產(chǎn)物業(yè)的優(yōu)質(zhì)供水網(wǎng)絡(luò )系統及游泳池水質(zhì)凈化。
9、線(xiàn)路板、電鍍、電子工業(yè)廢水處理及回用。
1、3噸/小時(shí)二級反滲透純凈水設備設計依據及處理水標準:
1.1原水:市政自來(lái)水。
1.2產(chǎn)水用途:生產(chǎn)用超純水。
1.3產(chǎn)水量:二級反滲透出水水量≥3.5 m3/h,EDI出水水量≥3 m3/h。
1.4出水水質(zhì):二級反滲透出水電導率≤5μs/cm,EDI出水電阻率≥15MΩ.CM, 總出水電阻率≥18MΩ.CM。
1.5系統配置:全自動(dòng)預處理+二級反滲透除鹽+EDI精除鹽+終端處理。
1.6運行方式:自動(dòng)控制運行。
1.7設計界線(xiàn):從原水箱出口至用水點(diǎn)(詳見(jiàn)工藝流程圖)。
1.8設備工藝參數滿(mǎn)足《工業(yè)用水軟化除鹽設計規范》(GBJ109-87)。
1.9設備安裝調試滿(mǎn)足《給水排水工程施工驗收規范》(GB1328-1995)。
1.10其它涉及的設計基礎條件將在技術(shù)討論中確定。
2、3噸/小時(shí)二級反滲透純凈水設備對外界要求:
2.1進(jìn)水管:進(jìn)水管接至原水箱入口。
2.2供電纜:根據算出的容量,用戶(hù)將動(dòng)力電分別送至操作控電控柜上。
2.3出水管:至用水點(diǎn)。(詳見(jiàn)工藝流程圖)。
2.4地基要求:地基承載力≥5噸/平方
2.5廢水處理:排至廠(chǎng)房?jì)鹊販?用戶(hù)考慮)。
2.6系統水溫:常溫。
3、3噸/小時(shí)二級反滲透+EDI設備超純水設備工藝流程示意圖
本工藝包括預處理部分、二級反滲透部分、EDI部分。