一、連續電除鹽EDI裝置,嬰兒濕巾用EDI去離子超純水設備概述：
EDI去離子超純水設備在設計上，采用成熟、可靠、*、自動(dòng)化程度高的兩級RO+EDI去離子水處理工藝，金屬離子的去除率達到98%以上，確保處理后的超純水設備出水水質(zhì)的電阻率達到10-18MΩ.cm。超純水設備材料均采用*可靠產(chǎn)品，采用PLC+觸摸屏控制，全套系統自動(dòng)化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經(jīng)濟合理。使設備與其它同類(lèi)產(chǎn)品相比較，具有更高的性?xún)r(jià)比和設備可靠性。
二、連續電除鹽EDI裝置,嬰兒濕巾用EDI去離子超純水設備的工作原理
一般自然水源中都會(huì )存在鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽等溶解物。這些化合物由帶負電荷的陰離子和帶正電荷的陽(yáng)離子組成。通過(guò)反滲透預處理，有95%-99%以上的離子可以被去除。反滲透產(chǎn)水的電阻率一般范圍是0.05-1.0MΩ·cm，即反滲透產(chǎn)水電導率的一般范圍為20-1µS/cm。根據在實(shí)際應用的情況，EDI電去離子產(chǎn)品水電阻率的范圍一般為5~18.2 MΩ·cm。另外，原水中也可能包括其它微量元素、溶解的氣體(如CO2)和一些弱電解質(zhì)(如硼、二氧化硅等)，這些雜質(zhì)在工業(yè)除鹽水中須被除掉。但是反滲透預處理對于這些雜質(zhì)的去除效果較差。因此，EDI裝置的作用就是除去電解質(zhì)(包括弱電介質(zhì))，將水的電阻率從0.05~1.MΩ·cm提高到5~18.2 MΩ.cm。
三、連續電除鹽EDI裝置,嬰兒濕巾用EDI去離子超純水設備的生產(chǎn)工藝
1、原水箱—原水泵—石英砂過(guò)濾器—活性炭過(guò)濾器—軟化過(guò)濾器（選配）--保安過(guò)濾器—高壓泵— 一級反滲透—中間水箱—混床增壓泵—混合離子交換床-超純水箱-純水泵—用水點(diǎn)
2、原水箱—原水泵—石英砂過(guò)濾器—活性炭過(guò)濾器—軟化過(guò)濾器（阻垢加藥系統）--保安過(guò)濾器—高壓泵— 一級反滲透—中間水箱—EDI增壓泵—EDI系統—超純水箱—純水泵—用水點(diǎn)
3、原水箱—原水泵—石英砂過(guò)濾器—活性炭過(guò)濾器—軟化過(guò)濾器（阻垢加藥系統）--保安過(guò)濾器— 一級高壓泵— 一級反滲透— 一級RO水箱—二級高壓泵—二級反滲透系統—純水箱—EDI增壓泵—紫外線(xiàn)殺菌器—0.22um微孔過(guò)濾器—EDI系統—超純水箱—純水泵—用水點(diǎn)
4、原水箱—原水泵—石英砂過(guò)濾器—活性炭過(guò)濾器—軟化過(guò)濾器（阻垢加藥系統）--保安過(guò)濾器— 一級高壓泵— 一級反滲透— 一級RO水箱—二級高壓泵—二級反滲透系統—純水箱—EDI增壓泵—紫外線(xiàn)殺菌器—0.22um微孔過(guò)濾器—EDI系統—超純水箱—純水泵—核能拋光混床—TOC殺菌器—用水點(diǎn)
四、連續電除鹽EDI裝置,嬰兒濕巾用EDI去離子超純水設備的其它應用范圍
生產(chǎn)半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件等電子工業(yè)用超純水系統。水質(zhì)可達可達18.25兆歐，符合電子行業(yè)生產(chǎn)所需超純水水質(zhì)要求。我公司曾為國外很多電子工業(yè)廠(chǎng)家制作工業(yè)超純水設備。
五、連續電除鹽EDI裝置,嬰兒濕巾用EDI去離子超純水設備的優(yōu)點(diǎn)
1、出水水質(zhì)具有穩定度。
2、能連續生產(chǎn)出符合用戶(hù)要求的超純水。
3、模塊化生產(chǎn)，并可實(shí)現全自動(dòng)控制。
4、不需酸堿再生，無(wú)污水排放。
5、不會(huì )因再生而停機。
6、無(wú)需再生設備和化學(xué)藥品儲運。
7、設備結構緊湊，占地面積小。
8、運行成本和維修成本低。
9、運行操作簡(jiǎn)單，勞動(dòng)強度低。
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