EX2自動(dòng)橢圓偏振測厚儀是基于消光法(或稱(chēng)“零橢偏”)橢偏測量原理,針對納米薄膜厚度測量領(lǐng)域推出的一款自動(dòng)測量型教學(xué)儀器。
EX2儀器適用于納米薄膜的厚度測量,以及納米薄膜的厚度和折射率同時(shí)測量。
EX2儀器還可用于同時(shí)測量塊狀材料(如,金屬、半導體、介質(zhì))的折射率n和消光系數k。
特點(diǎn):
儀器采用消光法橢偏測量原理,易于操作者理解和掌握橢偏測量基本原理和過(guò)程。
采用水平放置樣品的方式,方便樣品的取放。
集成一體化設計,簡(jiǎn)潔的儀器外形通過(guò)USB接口與計算機相連,方便使用。
采用激光作為探測光波,測量波長(cháng)準確度高。
可測量納米薄膜的膜厚和折射率;塊狀材料的復折射率、樣品反射率、樣品透過(guò)率。
儀器軟件可自動(dòng)完成樣品測量,并可進(jìn)行方便的測量數據分析、儀器校準等操作。
軟件中設置了用戶(hù)使用權限(包括:管理員、操作者等模式),便于儀器管理和使用。
利用本儀器,可通過(guò)適當擴展,完成多項偏振測量實(shí)驗,如馬呂斯定律實(shí)驗、旋光測量實(shí)、旋光等。
應用
EX2適合于教學(xué)中單層納米薄膜的薄膜厚度測量,也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數k。
EX2可測量的樣品涉及微電子、半導體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽(yáng)電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁質(zhì)存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等領(lǐng)域。
技術(shù)指標:
項目 | 技術(shù)指標 |
儀器型號 | EX2 |
測量方式 | 自動(dòng)測量 |
樣品放置方式 | 水平放置 |
光源 | He-Ne激光器,波長(cháng)632.8nm |
膜厚測量重復性* | 0.5nm (對于Si基底上100nm的SiO2膜層) |
膜厚范圍 | 透明薄膜:1-4000nm 吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān) |
折射率范圍 | 1.3 – 10 |
探測光束直徑 | Φ2-3mm |
入射角度 | 30°-90°,精度0.05° |
偏振器方位角讀數范圍 | 0-360° |
偏振器步進(jìn)角 | 0.014° |
樣品方位調整 | Z軸高度調節:12mm 二維俯仰調節:±4° |
允許樣品尺寸 | 圓形樣品直徑Φ120mm,矩形樣品可達120mm x 160mm |
配套軟件 | * 用戶(hù)權限設置 * 多種測量模式選擇 * 多個(gè)測量項目選擇 * 方便的數據分析、計算、輸入輸出 |
較大外形尺寸 | (入射角度70°時(shí))550*375*260mm |
儀器重量(凈重) | 約15Kg |
選配件 | * 半導體激光器 |
注:(1)測量重復性:是指對標準樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續測量30次所計算的標準差。
性能保證
- ISO9001國際質(zhì)量體系下的儀器質(zhì)量保證
- 專(zhuān)業(yè)的橢偏測量原理課程
- 專(zhuān)業(yè)的儀器使用培訓