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    Excite Pharos飛秒激光剝蝕系統

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    所  在  地上海

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    Excite Pharos 飛秒激光剝蝕系統是市面上很具操作性的飛秒系統,采用結構緊湊、全密閉的工業(yè)級激光源,無(wú)需二次校準和清潔維護。系統提供多種波長(cháng)可選,如1028nm、257nm、206nm,或配置多波長(cháng)切換控制,相對應的能量密度為10J/cm2(1028nm)、5J/cm2(257nm)、3J/cm2(206nm),在長(cháng)期穩定運行情況下剝蝕穩定性RSD能達到0.1%。同時(shí)系統配備HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池,提供快速沖洗效率和持續的剝蝕環(huán)境。

    詳細介紹

    產(chǎn)品特點(diǎn)

    Photon Machines團隊(縮寫(xiě)PMI)的激光剝蝕/激光燒蝕產(chǎn)品線(xiàn)為之一,其代產(chǎn)品于1995年問(wèn)世,該品牌具有豐富的激光剝蝕產(chǎn)品設計、研發(fā)、制造及應用經(jīng)驗,產(chǎn)品線(xiàn)涉及213nm固體激光、193nm準分子激光、飛秒激光系統(與ICP-MS聯(lián)用),及CO2和二極管激光熔融系統(與惰性氣體同位素質(zhì)譜聯(lián)用),此外多種高性能配件與更加直觀(guān)的分析軟件能夠增強并完善系統的功能,足以為元素分析用戶(hù)提供的激光剝蝕技術(shù)。 

    Excite Pharos 飛秒激光剝蝕系統是市面上很具操作性的飛秒系統,采用結構緊湊、全密閉的工業(yè)級激光源,無(wú)需二次校準和清潔維護。系統提供多種波長(cháng)可選,如1028nm、257nm、206nm,或配置多波長(cháng)切換控制,相對應的能量密度為10J/cm2(1028nm)、5J/cm2(257nm)、3J/cm2(206nm),在長(cháng)期穩定運行情況下剝蝕穩定性RSD能達到0.1%。同時(shí)系統配備HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池,提供快速沖洗效率和持續的剝蝕環(huán)境。 

    注:使用飛秒激光剝蝕系統用于化學(xué)分析受美國保護(號5656186及RE37585,由美國密歇根大學(xué)持有),Teledyne Photon Machines持有密歇根大學(xué)提供的許可,用于提供飛秒激光剝蝕系統。

    技術(shù)參數

    • 激光源為L(cháng)ight Conversion-Pharos 2mJ或Pharos SP 1.5 mJ
    • 激光波長(cháng)1028nm、257nm、206nm可選
    • 脈沖寬度<190fs-10ps
    • 脈沖能量可達2mJ
    • 可調脈沖頻率1-200kHz(步進(jìn)1Hz)
    • 波長(cháng)轉換選項廣(諧波發(fā)生器、OPA、NOPA、連續發(fā)生器)
    • 只經(jīng)歷一次光學(xué)折射以減少脈沖展寬
    • 每個(gè)波長(cháng)都有獨立的光路
    • 獨立的視頻和激光光學(xué)控制單元,能夠更好的查看樣品剝蝕點(diǎn)
    • 連續可調光斑大小1-65μm
    • 兼容HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池
    • 集成的冷卻系統減少實(shí)驗室空間

    應用領(lǐng)域

    基礎分析,半導體材料分析,地質(zhì)樣品分析,同位素比值研究

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