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    Aridus3膜去溶霧化系統

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    Aridus3 膜去溶霧化系統采用低流量、微量霧化器，只需極低量樣品就能分析所有元素，同時(shí)系統全部采用PFA惰性材料，可應用于含HF酸的樣品，的廢液反抽技術(shù)進(jìn)一步提高了穩定性。

    詳細介紹

    技術(shù)參數

    • 可移動(dòng)的模塊化膜去溶設計，拆裝和清洗方便
    • 帶蓋保護的PFA霧化室，避免靜電干擾
    • 膜去溶技術(shù)，有效減少溶劑對ICP-MS的干擾，顯著(zhù)降低氧化物和氫化物水平
    • 大大改善信號的穩定性，即使是有機溶劑（如甲醇）
    • 提高ICP-MS的靈敏度4-10倍以上
    • 可選配QuickWash3清洗裝置，有效抑制記憶效應
    • 采用質(zhì)量流量控制器（MFC）精準控制氣體流量
    • 可通過(guò)Aridus Link軟件遠程控制加熱溫度和氣體流速
    • 實(shí)驗完成后可啟動(dòng)氣體自動(dòng)關(guān)閉程序，大大節約氬氣成本

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