GB11901薄膜過(guò)濾器說(shuō)明書(shū)
SY-BLG 面議深圳市科時(shí)達電子科技有限公司
員1.png)
深圳市科時(shí)達電子科技有限公司
| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號
品 牌
廠(chǎng)商性質(zhì)其他
所 在 地深圳市
紡織服裝機械網(wǎng)采購部電話(huà)：0571-88918531
QQ:2568841715
聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式
更新時(shí)間：2024-02-19 17:43:07瀏覽次數：93次
聯(lián)系我時(shí)，請告知來(lái)自 紡織服裝機械網(wǎng)SAL-3000 ALD原子層沉積系統SAL3000是一款適用于研究型的ALD原子層沉積設備，該設備最多可搭載6路前驅體，適用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的鍍膜。
SAL-3000 ALD原子層沉積系統
SAL3000是一款適用于研究型的ALD原子層沉積設備，該設備最多可搭載6路前驅體，適用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的鍍膜。該設備在保持了優(yōu)異的膜厚分布外，還可進(jìn)一步通過(guò)改變鍍膜方向，來(lái)進(jìn)一步提高鍍膜的質(zhì)量。并且該設備還可搭載互鎖腔體（Load lock Chamber）和手套箱來(lái)沉積需要氣氛保護的樣品。
SAL-3000 SAL3000+Load lock chamber
性能及特點(diǎn)：
1.鍍膜質(zhì)量高
·膜厚均勻性≤3% @ 100mm
·對于內孔、凹槽與高深寬比結構具有良好的沉積均勻性；
·膜厚可準確控制達一個(gè)原子層；
·大面積制程可達到無(wú)孔洞薄膜（Pin Hole free）
·的重復性及穩定性
·材料缺陷密度低
·可成長(cháng)非晶型或結晶薄膜（選擇溫度）
2.兩種成膜方向可選
·可選擇將薄膜沉積在基底上表面（SAL-3000D）和基底下表面（SAL-3000U），薄膜沉積在基底下表面可降低顆粒附著(zhù)基底的風(fēng)險。
3. 可搭載互鎖腔體（Load lock chamber）和手套箱
4.圖形用戶(hù)界面，觸控操作，簡(jiǎn)單易用，可存儲30多種鍍膜方案；
5.主機與控制機箱一體化設計；
6. 可搭配多種配件：
干式真空泵，臭氧發(fā)生器，尾氣處理裝置，800℃基底加熱器，200℃前驅體加熱器等，退火設備等；
您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
GB11901薄膜過(guò)濾器說(shuō)明書(shū)
SY-BLG 面議
化工廠(chǎng)氣動(dòng)清洗機使用要點(diǎn)
WD2015Q 面議
紡織服裝機械網(wǎng) 設計制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
