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    脈沖激光沉積系統 Pioneer 180 MAPLE PLD

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    基質(zhì)輔助脈沖激光蒸發(fā)(MAPLE)是PLD的一種變體。這是由NRL集團新引入的技術(shù)，以促進(jìn)某些功能有機材料的薄膜沉積?；赨V (5-6 eV)的傳統PLD技術(shù)中，光化學(xué)反應可能會(huì )惡化有機分子、聚合物等的功能。而在MAPLE中，通過(guò)將待沉積的有機物(或聚合物)與吸收激光波長(cháng)的溶劑(基質(zhì))混合來(lái)制備特殊的靶。除了光學(xué)吸收外，在沉積條件下的高蒸氣壓是基質(zhì)的先決條件。

    詳細介紹

    基質(zhì)輔助脈沖激光蒸發(fā)(MAPLE)是PLD的一種變體。這是由NRL集團新引入的技術(shù)，以促進(jìn)某些功能有機材料的薄膜沉積?；赨V (5-6 eV)的傳統PLD技術(shù)中，光化學(xué)反應可能會(huì )惡化有機分子、聚合物等的功能。而在MAPLE中，通過(guò)將待沉積的有機物(或聚合物)與吸收激光波長(cháng)的溶劑(基質(zhì))混合來(lái)制備特殊的靶。除了光學(xué)吸收外，在沉積條件下的高蒸氣壓是基質(zhì)的先決條件。然后用液氮冷卻液體目標物，使其凍結為固體。激光輻射主要被目標的高揮發(fā)性、冷凍的溶劑(基質(zhì))分子吸收，這些分子隨后從固體目標中脫離，捕獲和帶走感興趣的有機分子。在它們向基片傳輸的過(guò)程中，高揮發(fā)性的基質(zhì)分子被抽走，將有機分子輸送到基片上沉積薄膜。它成功彌補了傳統 PLD的缺陷。

    特點(diǎn)

    獨立的MAPLE PLD系統。

    有機和聚合物薄膜的沉積。

    在同一室的附加沉積源(可選):脈沖電子沉積(PED)、射頻/直流濺射和直流離子源。

    負載鎖定基底階段。

    與XPS分析系統集成，晶片就地從PLD系統轉移到分析系統

    應用領(lǐng)域

    脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition）是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料合成時(shí)，工作壓力的動(dòng)態(tài)范圍很寬，達到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過(guò)控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有功能的納米結構和納米顆粒。另外，PLD 是一種“ 數字" 技術(shù)，在納米尺度上進(jìn)行工藝控制（?/pulse）。
    ? Neocera 在PLD 設備與工藝開(kāi)發(fā)方面具有不可超越的經(jīng)驗
    ? Pioneer 系列PLD 系統是研發(fā)領(lǐng)域廣泛使用的商業(yè)化系統
    ? Neocera 不僅為客戶(hù)提供最基本的PLD 系統，也提供完整的PLD 實(shí)驗室交鑰匙方案

    技術(shù)參數




    1. PLD真空室尺寸：12 " / 18"直徑(Pioneer 120-Advanced/ Pioneer 180 Models).

    2. 襯底尺寸：直徑2“和/或多種1厘米x1厘米的樣品。

    3. 襯底加熱：500℃，擁有可編程的加熱器。

    4. 基底旋轉：20 RPM。軟件控制。

    5. 目標階段：液氮冷卻；單目標階段為標準；多個(gè)目標(可選)

    6. 真空裝夾：襯底負載制動(dòng)

    7. 工業(yè)廢氣：按要求處理氣體。50 - 100 SCCM mfc電池

    8. 軟件：Windows 7/Labview 2013。



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