原廠(chǎng)供應價(jià)格好 ID:536301-02海德漢編碼器
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深圳市科時(shí)達電子科技有限公司
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更新時(shí)間：2024-02-19 20:13:40瀏覽次數：101次
聯(lián)系我時(shí)，請告知來(lái)自 紡織服裝機械網(wǎng)勻膠顯影機(英文名：Developing) 產(chǎn)地：美國一、產(chǎn)品概述： 650型勻膠顯影機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面顯影。
勻膠顯影機(英文名：Developing)
產(chǎn)地：美國
一、產(chǎn)品概述：
650型勻膠顯影機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面顯影。一般勻膠顯影機由動(dòng)力系統、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 (水)輥、涂膠槽等部分組成。
二、勻膠顯影機工作原理：
顯影系統具有可編程閥，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應用的要求重復進(jìn)行，如沖洗（通常是去離子水或溶劑），然后干燥（通常是氮氣）等最后的處理步驟。采用此序貫閥門(mén)技術(shù)的晶圓片和管道在干燥的環(huán)境中開(kāi)通和關(guān)閉處理過(guò)程。隔離和獨立的給水器可處在靜態(tài)的位置還可以蓋內調節。勻膠顯影機還有可選擇的動(dòng)態(tài)線(xiàn)性或徑向滴膠的特性。
三、勻膠顯影機主要性能指標：
1、腔體尺寸：12.5英寸 (318 毫米)；
2、Wafer&芯片：直徑8英寸（200毫米）的晶圓片或者7x7英寸（175毫米）的方片；
3、非真空托盤(pán)：聚丙烯材質(zhì)非真空托盤(pán)，可承載2、3英寸及200毫米的晶圓片-并帶有背面清洗功能；
3、轉動(dòng)速度：0-12,000rpm，
5、馬達旋涂轉速：穩定性能誤差 < ±1%；
6、工藝時(shí)間設定：1-5999.9 sec/step 0.1 精度；
7、高精度數碼控制器：PLC控制，設置點(diǎn)精度小于0.006%；
8、程序控制：可存儲20個(gè)程序段，每個(gè)程序段可以設置51步不同的速度狀態(tài)；
9、分辨率：分辨率小于0.5轉/分，可重復性小于±0.5轉/分，美國國家標準技術(shù)研究院（NIST）認證過(guò)的，并且無(wú)需再校準！]
10、腔體開(kāi)關(guān)蓋板：透明ECTFE材質(zhì)圓頂蓋板，便于實(shí)時(shí)進(jìn)行可視化操作；
11、腔體材質(zhì)說(shuō)明：用聚丙烯材質(zhì)制成的帶有聯(lián)動(dòng)傳感觸點(diǎn)的合瓣式艙體；
12、配套分析軟件：SPIN3000操作分析軟件；
13、配套真空泵系統：無(wú)油型 220~240伏交流，50/60赫茲；
四、適用工藝（包括但不限于下述濕法制程）
光刻膠顯影（KrF/ArF）
SU8厚膠顯影
顯影后清洗
PostCMP清洗
光罩去膠清洗
光刻膠去除
金屬Lift-off處理
刻蝕微刻蝕處理
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