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    深圳市科時(shí)達電子科技有限公司


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    美國恩科優(yōu)N&Q系列光刻機8006

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    廠(chǎng)商性質(zhì)其他

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    商鋪產(chǎn)品:194條

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    聯(lián)系人:林經(jīng)理

    產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    品牌:恩科優(yōu)(N&Q)型號:NXQ800-6產(chǎn)地:美國恩科優(yōu)光刻機分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中,N&Q8000系列光刻機是以自動(dòng)系統為主。該系統*的操作性,超高的分辨率,均勻的光學(xué)系統,現代的接近式和接觸式光刻及超高的性?xún)r(jià)比,使恩科優(yōu)光刻系統已經(jīng)被全國各地眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用,并成為他們光刻系統的。

    詳細介紹

    品牌:恩科優(yōu)(N&Q

    型號:NXQ800-6

    產(chǎn)地:美國

    美國恩科優(yōu)N&Q系列光刻機8006(圖1)




    恩科優(yōu)光刻機分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中,N&Q8000系列光刻機是以自動(dòng)系統為主。該系統*的操作性,超高的分辨率,均勻的光學(xué)系統,現代的接近式和接觸式光刻及超高的性?xún)r(jià)比,使恩科優(yōu)光刻系統已經(jīng)被全國各地眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用,并成為他們光刻系統的;



    二、技術(shù)參數:

    1、芯片尺寸:5mm~150mm的圓片/方片和不規則碎片(支持對不規則碎片的特殊卡盤(pán)設計);

    2、曝光波長(cháng):350nm-450nm(其它波長(cháng)可選配);

    3、汞燈功率:350W/500W(其它功率可選配);

    4、分辨率:優(yōu)于0.5um;

    5、曝光模式:支持接近式曝光,各種接觸式(真空接觸、軟接觸、硬接觸等)曝光;

    6、出射光強范圍:10mW/cm2~55mW/cm2@405nm;

    7、支持恒定光強或恒定功率模式;

    8、曝光時(shí)間:0.1~999.9s;

    9、對準精度:雙高清彩色CCD + 雙高清彩色監視器,對準精度可達到0.4微米內;

    10、掩膜尺寸:2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜轉換器);

    11、光強均勻性Uniformity

    <±1% over 2" 區域;

    <±2% over 4" 區域;

    <±3% over 6" 區域;

    12、雙面光刻:具備背面紅外對準(IR BSA)和光學(xué)背面對準(OBS BSA),雙面對準精度≤2μm;

    13、電源:高靈敏度光強可控電源。

    可選型號:

    NXQ400-6

    NXQ400-8

    NXQ800-6

    NXQ8006 Sapphire

    NXQ800-8


    三、產(chǎn)品特點(diǎn):

    可選支持單面對準和雙面對準設計;

    高清晰彩色雙CCD鏡頭采用的分裂視場(chǎng)顯微鏡鏡頭(基于無(wú)限遠修正的CCD鏡頭設計);雙頭高清全彩物鏡(單視場(chǎng)或分裂視場(chǎng)可供用戶(hù)靈活選擇);

    高清彩色雙顯示屏;

    全新氣動(dòng)軸承導軌設計,高精準,低磨損,無(wú)需售后維護的;

    具有自動(dòng)執行楔形誤差補償,并在找平后自動(dòng)定位功能;

    操作簡(jiǎn)易,具有支持多操作員同臺使用的友好操作界面;

    操控手柄調控模式的設計;

    采用LED穿透物鏡照明技術(shù),具有對準亮度;

    采用基于無(wú)限遠修正的顯微鏡鏡頭架構;

    抗衍射反射的高效光學(xué)光路設計;

    帶安全保護功能的溫度和氣流傳感器;

    全景準直透鏡光線(xiàn)偏差半角: <1.84度;

    設備穩定性,耐用性超高;




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