等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的"活性"組分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩態(tài)）、光子等。等離子體表面處理儀就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。
清洗原理
等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運動(dòng)狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子；未反應的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。
在真空腔體里，通過(guò)射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無(wú)序的等離子體，通過(guò)等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面．以達到清洗目的。
結構
等離子清洗機的結構主要分為三個(gè)大的部分組成，分別是控制單元、真空腔體以及真空泵。就以下三個(gè)部分做一個(gè)陳述：
一、控制單元
國內使用的等離子清洗機，包括國外進(jìn)口的，控制單元主要分為半自動(dòng)控制、全自動(dòng)控制、PC電腦控制、液晶觸摸屏控制四種方式。
而控制單元又分為兩個(gè)大的部分：
1）電源部分：主要電源頻率有三種，分別是40KHz、13.56MHz、2.45GHz，其中13.56MHz是需要電源匹配器的。
2）系統控制單元：分三種，按鈕控制（半自動(dòng)、全自動(dòng)）、電腦控制、PLC控制（液晶觸摸屏控制）。
二、真空腔體：
真空腔體主要是分為兩種材質(zhì)的：
1）不銹鋼真空腔體。
2）石英腔體。
三、真空泵：
真空泵分為兩種：
1）干泵。
2）油泵。
優(yōu)勢
一、清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序?？梢蕴岣哒麄€(gè)工藝流水線(xiàn)的處理效率；
二、等離子清洗使得用戶(hù)可以遠離有害溶劑對人體的傷害，同時(shí)也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問(wèn)題；
三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會(huì )產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性；
四、采用無(wú)線(xiàn)電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線(xiàn)不同。等離子體的方向性不強，這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內部完成清洗任務(wù)，因此不需要過(guò)多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至更好；
五、使用等離子清洗，可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個(gè)清洗工藝流程幾分鐘內即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點(diǎn)；
六、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種清洗條件很容易達到。因此這種裝置的設備成本不高，加上清洗過(guò)程不需要使用價(jià)格較為昂貴的有機溶劑，這使得整體成本要低于傳統的濕法清洗工藝；
七、使用等離子清洗，避免了對清洗液的運輸、存儲、排放等處理措施，所以生產(chǎn)場(chǎng)地很容易保持清潔衛生；
八、等離子體清洗可以不分處理對象，它可以處理各種各樣的材質(zhì)，無(wú)論是金屬、半導體、氧化物，還是高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹(shù)脂等高聚物）都可以使用等離子體來(lái)處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結構進(jìn)行部分清洗；
九、在完成清洗去污的同時(shí)，還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著(zhù)力等，這在許多應用中都是非常重要的。
員1.png)
QQ:2568841715
