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    輝光放電發(fā)射光譜儀(GD-OES)

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    ●射頻發(fā)生器是E類(lèi)標準,對穩定性和濺射坑形狀都進(jìn)行了優(yōu)化以滿(mǎn)足實(shí)時(shí)表面分析

    詳細介紹



    ●射頻發(fā)生器是 E 類(lèi)標準,對穩定性和濺射坑形狀都進(jìn)行了優(yōu)化以滿(mǎn)足實(shí)時(shí)表面分析。
    ●射頻源可以分析傳統和非傳統鍍層和材料,對于易碎樣品,還可以使用脈沖式同步采集優(yōu)化測試。
    ●從 110nm到 800nm 同步全光譜覆蓋,包括分析 H、O、C、N 和 Cl 的深紫外通道。
    HORIBA 研發(fā)的離子刻蝕型全息光柵具有高的光通量和光譜分辨率,光學(xué)效率和靈敏度都表現優(yōu)良。
    ●HDD 探測器兼具檢測速度和靈敏度。
    ●內置的微分干涉儀DIP可實(shí)時(shí)測量濺射坑深度和剝蝕速率。
    ●寬敞簡(jiǎn)潔的大樣品倉易于裝卸樣品,操作簡(jiǎn)單。
    ●QUANTUM™ 軟件配置了Tabler 報告編寫(xiě)工具。
    ●激光中心定位裝置(正在申請)可定位樣品測試位置。
     HORIBA 的輝光放電光譜儀可以選配單色儀,實(shí)現n+1元素通道的同時(shí)也提高了設備的靈活性。



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