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    PHI Quantera II掃描聚焦XPS微探針

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    產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    PHI Quantera II掃描XPS微探針是建基于業(yè)界榮獲*多殊榮的Quantum 2000和Quantera SXM之上**研發(fā)的XPS分析儀器，其革命性的技術(shù)包括：**微聚焦X-ray源，可以得到世界*小至7.5μm的聚焦X-ray；的雙束電荷中和技術(shù)，即使到各位數微米區域，依然能夠有效中和樣品荷電；五軸精密樣品臺及全自動(dòng)樣品傳遞手臂，可同時(shí)進(jìn)樣數百個(gè)樣品；全自動(dòng)支持互聯(lián)網(wǎng)遠程控制。這些革命性的技術(shù)，使XPS的應用范圍從數百微米擴展至個(gè)位數微米，同時(shí)能夠高效快速的處理各種樣品，包括導體、絕緣體、磁性樣品等。

    詳細介紹

    PHI Quantera II掃描XPS微探針是建基于業(yè)界榮獲*多殊榮的Quantum 2000和Quantera SXM之上**研發(fā)的XPS分析儀器，其革命性的技術(shù)包括：**微聚焦X-ray源，可以得到世界*小至7.5μm的聚焦X-ray；的雙束電荷中和技術(shù)，即使到各位數微米區域，依然能夠有效中和樣品荷電；五軸精密樣品臺及全自動(dòng)樣品傳遞手臂，可同時(shí)進(jìn)樣數百個(gè)樣品；全自動(dòng)支持互聯(lián)網(wǎng)遠程控制。這些革命性的技術(shù)，使XPS的應用范圍從數百微米擴展至個(gè)位數微米，同時(shí)能夠高效快速的處理各種樣品，包括導體、絕緣體、磁性樣品等。

    性能特點(diǎn)

    掃描式聚焦X-ray設計，使7.5μm至1.4mm的分析區域內都可維持高性能的快速分析。

    PHI Quantera II使用了PHI**的掃描聚焦式X-ray源，配合升級版的單色聚焦石英晶體，對比上一代的*小X-ray束斑進(jìn)一步減少20%至7.5μm。X-ray束斑從7.5μm至400μm范圍內連續，配合掃描功能，使分析面積范圍擴充至7.5μm~1400μm*1400μm。
    PHI Quantera II同時(shí)配備高收集效能的靜電式半球能量分析器，擁有大收集角度的同時(shí)，創(chuàng )新性的采用橢圓式的羅蘭圓設計，極大的提高了能量分辨率。在空間分辨率、靈敏度、能量分辨率等指標上，堪稱(chēng)世界*強性能XPS系統。配合掃描X-ray高速同步掃描，真正意義上實(shí)現了單點(diǎn)、多點(diǎn)、線(xiàn)、面分析的*強功能。
    高靈敏度的分析能力

    PHI Quantera II采用聚焦X-ray系統，在能量分析器的收集透鏡端摒棄傳統的光闌設計進(jìn)行選區，**可能的提升了光電子的收集效率，使其遠遠高出同類(lèi)產(chǎn)品在200μm以下空間尺度的靈敏度，在30μm以下分區區域時(shí)，靈敏度高出非聚集XPS達100倍以上。同時(shí)，勿需采用磁透鏡，保證了磁性樣品分析時(shí)的靈敏度及避免了由磁透鏡所帶來(lái)的荷電中和困難，即使是磁性樣品，也可輕松應對。在靈敏度提高的同時(shí)，極大的提高了分析效率，縮短分析時(shí)間。
    占**優(yōu)勢的微區分析能力

    傳統的XPS在微區分析定位時(shí)，存在不能清晰觀(guān)察樣品的困難。PHI Quantera II通過(guò)X-ray激發(fā)樣品產(chǎn)生二次電子影像（SXI），可由二次電子影像提供分析所用的全部細微特征。二次電子影像（SXI）與采譜過(guò)程采用相同的激發(fā)源、光電子經(jīng)過(guò)相同的光學(xué)路徑、使用同一探測器進(jìn)行成像及獲譜。避免了因為光學(xué)圖像上選點(diǎn)與分析位置的偏差，保證了所見(jiàn)即所得的精確分析。
    微小區域的高靈敏度分析不只在于表面分析，PHI Quantera II在微區深度剖析時(shí)，在相距只有幾十微米的不同結構區域，都可有效提供超高靈敏度的分析結果。
    自動(dòng)雙束中和設計，使導體及非導體

    雙束中和采用低能電子束及低能離子束，在樣品近表面形成類(lèi)等離子體氣氛，用來(lái)中和絕緣樣品表面的荷電。這一的中和方式，使在分析不同類(lèi)型樣品時(shí)，無(wú)需重新設置中和參數，既能自動(dòng)匹配提供穩健的電荷補償功能。浮動(dòng)柱狀離子*及冷陰極發(fā)射器可以在**電壓的條件下，提供**的離子及電子密度流。
    逐點(diǎn)掃描的快速化學(xué)成像能力

    通過(guò)掃描X-ray，可通過(guò)條件每點(diǎn)的掃描時(shí)間快速完成化學(xué)態(tài)成像。同時(shí)能夠得到每個(gè)像素點(diǎn)的化學(xué)態(tài)信息。傳統的XPS通常采用拍攝大量的化學(xué)態(tài)快照，通過(guò)數學(xué)計算得到微區譜信息。而PHI Quantera II真正意義上實(shí)現了在化學(xué)態(tài)成像圖上獲取數據譜信息，同時(shí)數據譜的空間分辨率、靈敏度及能量分辨率與儀器主指標一致。
    精確而快速的深度剖析能力

    采用的聚焦X-ray設計，可使用較小的束斑得到**的界面信息。同時(shí)采用較小的濺射面積實(shí)現快速的深度剖析功能。

    應用領(lǐng)域

    化學(xué)：化學(xué)涂料，聚合物，催化劑。
    材質(zhì)：金屬，薄膜，納米材料。
    電子：半導體，磁盤(pán)，微電子技術(shù)和顯示技術(shù)。
    生物醫學(xué)與生物醫學(xué)設備。


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