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更新時(shí)間:2023-08-23 17:58:44瀏覽次數:108次
聯(lián)系我時(shí),請告知來(lái)自 紡織服裝機械網(wǎng)大伙兒應當都了解,在生產(chǎn)制造處理芯片的情況下,有兩個(gè)大中型機器設備,一個(gè)是光刻技術(shù),此外一個(gè)便是蝕刻機,那麼有的盆友便會(huì )問(wèn),什么叫光刻技術(shù),什么叫蝕刻機,它倆究竟有什么差別呢?今日我們就跟大伙兒好好說(shuō)說(shuō)哈,當期知識要點(diǎn)很聚集,大伙兒都聽(tīng)好了哈
大伙兒應當都了解,在生產(chǎn)制造處理芯片的情況下,有兩個(gè)大中型機器設備,一個(gè)是光刻技術(shù),此外一個(gè)便是蝕刻機,那麼有的盆友便會(huì )問(wèn),什么叫光刻技術(shù),什么叫蝕刻機,它倆究竟有什么差別呢?今日我們就跟大伙兒好好說(shuō)說(shuō)哈,當期知識要點(diǎn)很聚集,大伙兒都聽(tīng)好了哈。
這倆設備簡(jiǎn)易的表述便是光刻技術(shù)把原理圖投射到遮蓋有光刻技術(shù)的單晶硅片上邊,刻蝕機再把剛剛畫(huà)了原理圖的單晶硅片上的不必要原理圖浸蝕掉,那樣看上去好像沒(méi)有什么難的,可是有一個(gè)品牌形象的形容,每一塊處理芯片上邊的電源電路構造變大成千上萬(wàn)倍看來(lái)比全部北京市都繁雜,這就是這光刻技術(shù)和蝕刻的難度系數。
光刻技術(shù)的全過(guò)程就是目前制做好的硅圓表層涂上一層光刻技術(shù)(一種能夠被光浸蝕的膠狀物化學(xué)物質(zhì)),接下去根據光源(加工工藝難度系數紫外線(xiàn)<深紫外線(xiàn)<極紫外線(xiàn))通過(guò)掩膜照射硅圓表層(相近投射),由于光刻技術(shù)的遮蓋,照射的一部分被浸蝕掉,沒(méi)有陽(yáng)光照射的一部分被留下,這些就是必須的電源電路構造。
蝕刻分成二種,一種是干刻,一種是濕刻(現階段流行),說(shuō)白了,濕刻便是全過(guò)程中有冰添加,將上邊歷經(jīng)光刻技術(shù)的圓晶與特殊的化學(xué)溶液反映,除掉不用的一部分,剩余的就是電源電路構造了,干刻現階段都還沒(méi)完成商業(yè)服務(wù)批量生產(chǎn),其基本原理是根據等離子技術(shù)替代化學(xué)溶液,除去不用的硅圓一部分。
現階段在我國光刻技術(shù)和蝕刻機的發(fā)展趨勢非常尷尬,歸屬于比較嚴重兩極分化的狀況,中微半導體7nm蝕刻機的批量生產(chǎn),立即邁進(jìn)隊伍,5nm蝕刻機也在試驗環(huán)節,在這里兩條道路上,蝕刻機要繼續努力,而光刻技術(shù)則必須奮起直追。
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