半導體材料超純水設備 返回列表頁(yè)

　　半導體材料是常用的原料，尤其是在電子行業(yè)高速發(fā)展的今天。半導體材料超純水設備采用RO、EDI與精混床除鹽水處理工藝，技術(shù)*可靠自動(dòng)化程度高。設備重要的就是出水穩定，水質(zhì)的電阻率達到18.2 MΩ.cm。

　　半導體材料超純水設備配置

　　半導體材料超純水設備的配置包括四部分，分別是前處理、預處理、主機系統以及后處理消毒裝置。主要包括原水加壓泵、多介質(zhì)過(guò)濾器、活性炭過(guò)濾器、軟水器、保安過(guò)濾器。主機系統是雙級反滲透設備、EDI主機系統，消毒裝置是臭氧發(fā)生器。

　　半導體材料超純水設備優(yōu)勢

　　半導體材料超純水設備優(yōu)勢在于其的配置，主要是以反滲透和電去離子裝置為主機。這是當今*環(huán)保制取超純水的工藝。這種工藝不需要要用酸堿進(jìn)行再生便可連續制取，不會(huì )對環(huán)境造成二次污染。

　　半導體材料超純水設備特點(diǎn)

　　半導體材料超純水設備的特點(diǎn)就是實(shí)用性能強可以根據客戶(hù)的實(shí)際而定。EDI系統有相當處理水量，采用積木式結構可依據場(chǎng)地的高度靈活地構造。是采用模塊化的設計，在生產(chǎn)工作時(shí)能方便維護。

　　電子科技的發(fā)展代表著(zhù)整體技術(shù)的發(fā)展水平，半導體材料的生產(chǎn)技術(shù)要求很高。半導體材料超純水設備是我們超純水設備廠(chǎng)家的自主研發(fā)，結合了國內外的*技術(shù)。設備的自動(dòng)化智能化程度高，做到了基本無(wú)污染清潔生產(chǎn)的要求。