半導體行業(yè)的生產(chǎn)對水質(zhì)要求非常嚴格，半導體生產(chǎn)用超純水設備采用*制水技術(shù)，保證設備出水水質(zhì)符合行業(yè)用水需求。
一、半導體行業(yè)用超純水設備工藝 ：預處理→UF 系統→一級反滲透→PH 調節→級間水箱→二級反滲透→中間水箱→中間水泵→ 紫外線(xiàn)殺菌器→微孔過(guò)濾器→EDI 裝置→氮封水箱→增壓水泵→拋光混床→循環(huán)增壓泵→用水對象(≥18MΩ.CM) 半導體的生產(chǎn)過(guò)程中，涉及到的用水有生產(chǎn)用水和清洗用水。它的用水要求必須是超純 水，因為只有超純水才能符合水質(zhì)的標準，因此半導體生產(chǎn)用超純水設備起到重要作用，已經(jīng)得到廣泛認可。
二、半導體生產(chǎn)用超純水設備工藝流程： 原水箱→原水泵→全自動(dòng)多介質(zhì)過(guò)濾器→全自動(dòng)活性炭過(guò)濾器→還原劑加藥裝置→全自 動(dòng)軟化過(guò)濾器→保安過(guò)濾器→一級高壓泵→一級反滲透系統→一級RO水箱→PH調節裝置→ 二級高壓泵→二級反滲透系統→二級 RO 純水箱→EDI 增壓泵→UV 殺菌器→脫氣膜→精密過(guò)濾器 →EDI 裝置→EDI 純水箱→純水泵→拋光混床→0.22u 膜過(guò)濾器→生產(chǎn)線(xiàn)用水點(diǎn)
三、半導體生產(chǎn)用超純水設備工作原理： 超純水裝置供給原水進(jìn)入 EDI 系統，主要部分流入樹(shù)脂/膜內部，而另一部分沿膜板外 側流動(dòng)，以洗去透出膜外的離子，樹(shù)脂截留水中的容存離子，被截留的離子在電極作用下， 陰離子向正極方向運動(dòng)，陽(yáng)離子向負極方向運動(dòng)，陽(yáng)離子透過(guò)陽(yáng)離子膜，排出樹(shù)脂/膜之外， 陰離子透過(guò)陰離子膜，排出樹(shù)脂/膜之外，濃縮了的離子從廢水流路中排出，無(wú)離子水從樹(shù)脂 /膜內流出。
四、半導體生產(chǎn)用超純水備工藝
1、預處理-反滲透-水箱-陽(yáng)床-陰床-混合床-純化水箱-純水泵-紫外線(xiàn)殺菌器-精制混床-精
密過(guò)濾器-用水對象
2、預處理-一級反滲透-加藥機(PH 調節)-中間水箱-第二級反滲透-純化水箱-純水泵-紫外
線(xiàn)殺菌器-0.2 或 0.5μm 精密過(guò)濾器-用水對象
3、預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI 裝置-純化水箱-純水泵-紫外線(xiàn)殺菌器-0.2 或 0.5μm
精密過(guò)濾器-用水對象
4、預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI 裝置-純化水箱-純水泵-紫外線(xiàn)殺菌器-精制拋光混床
-TOC 分解器-0.2 或 0.5μm 精密過(guò)濾器-用水對象(新工藝)
五、半導體生產(chǎn)用超純水備特點(diǎn)
1、選用高性能離子交換樹(shù)脂，工作交換容量大，能耗低，使用壽命長(cháng)。
2、控制部分全部采用進(jìn)口控制器，保障設備持續安全運行。
3、全自動(dòng)控制系統，出水穩定，使用操作方便快捷。
4、結構合理，安裝操作方便。
5、可根據實(shí)際使用需求，水處理設備個(gè)性化設計相應設備。
六、半導體行業(yè)用超純水設備采用 PLC+觸摸屏控制，全套系統自動(dòng)化程度高，系統穩定性高；大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經(jīng)濟合理；使設備與其它同類(lèi)產(chǎn)品相比較，具有更高的性?xún)r(jià)比和設備可靠性，為滿(mǎn)足用戶(hù)需要，達到符合標準的水質(zhì)，盡可能地減少各級的污染，延長(cháng)設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上，取達國家自來(lái)水標準的水為源水，再設有介質(zhì)過(guò)濾器，活性碳過(guò)濾器，鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等預處理系統、RO 反滲透主機系統、離子交換混床(EDI 電除鹽系統)系統等。 系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線(xiàn)水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用 PLC 可編程控制器，真正做到了無(wú)人職守，同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶(hù)要求相統一的方法，使設備與其它同類(lèi)產(chǎn)品相比較，具有更高的性?xún)r(jià)比和設備可靠性。
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