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    MA12 Mask Aligner 半自動(dòng)光刻機

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    MA12 Mask Aligner 半自動(dòng)光刻機用于工業(yè)研究和低成本生產(chǎn)的手動(dòng)光刻機MA12是專(zhuān)為對準和曝光300毫米以下方形襯底和晶圓而設計的，適合于工業(yè)研究和生產(chǎn)。憑借靈活處理和過(guò)程控制解決方案，本設備主要用于封裝，包括3D圓晶級芯片尺寸封裝, 以及開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)敏感元件，如MEMS。

    詳細介紹

    • MA12 Mask Aligner


      用于工業(yè)研究和低成本生產(chǎn)的手動(dòng)光刻機

      MA12是專(zhuān)為對準和曝光300毫米以下方形襯底和晶圓而設計的，適合于工業(yè)研究和生產(chǎn)。憑借靈活處理和過(guò)程控制解決方案，本設備主要用于封裝，包括3D圓晶級芯片尺寸封裝, 以及開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)敏感元件，如MEMS。

      亮點(diǎn)：

      ◆ 強大的工藝控制；

      ◆ 能夠可靠地處理彎曲晶圓片和敏感材料；

      ◆ 的光均勻性。

      通過(guò)對準技術(shù)選項和可適應各種工藝環(huán)境的光學(xué)系統，MA12提供開(kāi)發(fā)和使用光刻工藝所需要的靈活性。輔助操作系統和智能圖形用戶(hù)界面結合手動(dòng)晶圓處理優(yōu)點(diǎn)打造出強大的工藝控制和可靠性。

      MA12所采用的光刻技術(shù)能夠將開(kāi)發(fā)出的工藝輕松傳輸到 SUSS MicroTec 公司第二代 MA300 生產(chǎn)型光刻機上。





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