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產(chǎn)品概況上市時(shí)間：2020年1月1、雙光室，確保所有分析譜線(xiàn)都獲得分辨率
產(chǎn)品概況
上市時(shí)間：2020年1月
1、雙光室，確保所有分析譜線(xiàn)都獲得分辨率。 SPECTROLAB S 配備兩套完整的光學(xué)系統。一個(gè)光室精確測量波長(cháng)從120到240納米(nm);另一個(gè)光室，波長(cháng)范圍從210到800納米(nm)。 兩個(gè)光室都采用的CMOS檢測器，具備恒溫裝置和壓力補償功能
2、等離子發(fā)生器數字光源和點(diǎn)火板 可靠的新型高能LDMOS等離子發(fā)生器光源，為SPECTROLAB S 輸出超級穩定的火花放電，頻率1000 Hz。結果：最短的測量時(shí)間(例如：分析低合金鋼小于 20 秒)。該系統還允許特定應用的火花參數設置，以?xún)?yōu)化分析性能。
3、精密氬氣控制系統 SPECTROLAB S 采用全新程控流量。軟件根據分析程序精密設置氬氣流量。節約了氬氣消耗。氬氣閥體直接耦合到火花臺，無(wú)需管道連接。避免漏氣。
4、火花臺清理間隔大大延長(cháng) 堅固的陶瓷內芯避免積塵粘附。流暢的氣路設計確保了最少的粉塵殘留(使得清理間隔時(shí)間延長(cháng)了8倍);對于大樣品量輸出的全自動(dòng)光譜儀系統尤為重要。
5、快速讀出系統 斯派克的GigE創(chuàng )新讀出系統確保海量數據的極速處理，從而支持的儀器性能表現。實(shí)現了的全光譜范圍譜圖記錄。
6、超低檢出限。SPECTROLAB S 采用的 CMOS+T技術(shù)，在關(guān)鍵元素的檢測限方面，超越光電倍增管技術(shù)的性能。通過(guò)配置參比通道，工作曲線(xiàn)可以獲得優(yōu)化?？梢钥焖俣糠治鰌pm量級的高純金屬或合金中的痕量元素。
產(chǎn)品特點(diǎn)
作為電弧/火花創(chuàng )新技術(shù)的，40多年來(lái)，SPECTRO全心投入開(kāi)發(fā)出的發(fā)射光譜儀。今天，斯派克公司引入CMOS探測器技術(shù)，改變了電弧/火花分析技術(shù)的走向及未來(lái)。在所有同類(lèi)分析儀中，SPECTROLAB S所提供分析速度超出想象，元素檢測限低限，同時(shí)她也可以提供超長(cháng)的正常運行時(shí)間和非常具有前瞻性的靈活性。
SPECTROLAB S 擁有世界上全新基于CMOS的探測器的記錄系統，該系統非常適合于金屬分析。從微量元素到多基體應用，它提供了極其快速、高度準確、異常靈活的技術(shù)選擇。
樣品的分析速度是儀器性的重要標志，SPECTROLAB S的推出滿(mǎn)足了金屬分析市場(chǎng)對速度的需求。例如：當檢測低合金鋼時(shí)，它可以在20秒或更短的時(shí)間內提供高準確度的測量值!
從技術(shù)指標和實(shí)際使用效果看，SPECTROLAB S均是目前金屬冶煉廠(chǎng)適合的、高性能的光譜儀。對于金屬再加工生產(chǎn)商、汽車(chē)和航空航天制造商、以及成品和半成品、電子產(chǎn)品、半導體等制造商來(lái)說(shuō)，她給出的解決方案同樣出色。
20秒內獲得高準確度的結果(例如：低合金鋼)
定期維護的工作量(火花臺清洗)減少8倍
元素在低合金鋼中平均檢測限改善2倍，元素在純鋁中的平均檢測限改善5倍
儀器的占地面積減少27%
單一標樣實(shí)現整個(gè)系統的標準化, 此項每天可節省30分鐘工作時(shí)間
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