低溫恒溫槽價(jià)格 返回列表頁(yè)

DC低溫恒溫槽主要特點(diǎn):  DC低溫恒溫槽

數顯分辨率：0.01℃

溫度波動(dòng)值：±0.02℃

溫度均勻度：±0.05℃ 水平/垂直

溫度范圍可控制：-120~100℃ 

 

DC低溫恒溫槽，又稱(chēng)低溫恒溫浴槽，是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源，兼具小型冷水機的功能。廣泛應用于石油、化工、冶金、醫藥、生化、物性，測試及化學(xué)分析等研究部門(mén)、高等院校、工廠(chǎng)實(shí)驗室及計量質(zhì)檢部門(mén)。根據槽開(kāi)口尺寸的不同，可在浴槽內進(jìn)行恒溫實(shí)驗，亦可通過(guò)軟管與其他設備相連接，與恒溫源配套使用。內循環(huán)：通過(guò)泵對槽內液體介質(zhì)的循環(huán)吞吐，增加槽內溫度的均勻性，減少溫度波動(dòng)。外循環(huán)：通過(guò)泵的循環(huán)能力，利用出水口將保溫軟管與外部設備連接，形成封閉回路，流回設備進(jìn)水口，是將槽內恒溫介質(zhì)外引，建立外部恒溫場(chǎng)。

應用領(lǐng)域：

生化領(lǐng)域：
旋轉蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應器（合成器）等。材料領(lǐng)域：電鏡、X射線(xiàn)衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學(xué)沉積系統、原子沉積系統等。醫療領(lǐng)域：超導磁共振、直線(xiàn)加速器、CT、低磁場(chǎng)核磁共振、X光機、冷帽、降溫毯等等。
物化領(lǐng)域：
激光器、磁場(chǎng)、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域。使用的各種需水冷設備。

DC低溫恒溫槽產(chǎn)品特點(diǎn)：

節約能源——在夏季和高環(huán)境溫度下，冷卻水可在系統回路中循環(huán)使用，節約大量的水資源。

效率更高——一臺循環(huán)水設備可同時(shí)滿(mǎn)足多臺外部設備的冷卻需求，持續提供低溫恒溫水源，適用于冷凝實(shí)驗。

控溫精度——PID控溫技術(shù)，內置PT100傳感器、控溫精度高，溫度數字顯示，操作直觀(guān)

安全性高――具有自我診斷功能；冷凍機過(guò)載保護等多種安全保障功能。

低溫不凍液配比

A乙二醇水溶液：乙二醇/水 55/45 （－30℃）、70/30 （－40℃）

B丙三醇水溶液：丙三醇/水 70/30 （－30℃）使用中需經(jīng)常檢查低溫不凍液的密度使其滿(mǎn)足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20=1079㎏/m3 （－30℃）（－40℃）2.丙三醇水溶液：P20=1182.6㎏/m3 （－30℃）不凍液用水代替時(shí)，其zui低溫度必須在0℃以上。

●DC低溫恒溫槽可選配功能指南

1.可選配加長(cháng)外接式PT100溫度傳感器，可實(shí)時(shí)檢測和控制外循環(huán)時(shí)外部體系的溫度。

2.可選配內置1~30段溫度控制程序，可進(jìn)行自動(dòng)程序控溫，實(shí)時(shí)顯示設定溫度-時(shí)間程序運行狀態(tài)。

3.可選配RS232或RS485通訊接口，輕松連接上位機，帶有ModbusRTU通訊協(xié)議。

4.可選配設計、安裝磁力攪拌系統，可把放入恒溫槽工作室內燒杯中的液態(tài)樣品直接進(jìn)行磁  力攪拌，無(wú)需外接立式攪拌機，減少冗繁操作。

5.可選配槽體內置的冷卻盤(pán)管，對系統的放熱反應進(jìn)行快速的降溫和控制。

6.可選配高度可調浸入式載物平臺，輕松調節浸入樣品的液面高度。

7.可選配臥式造形，具有結構緊湊、重心降低、穩定性強等特點(diǎn)。

冷卻水選型相關(guān)：通常，制冷能力在1000W以下機型小型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛運用小功率激光器、平行蒸發(fā)儀、平行定量濃縮儀、平行反應器、蒸餾儀等實(shí)驗室冷凝裝置等。制冷能力在6000W以下中型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應用于A(yíng)AS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業(yè)，旋轉蒸發(fā)儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實(shí)驗室設備，激光打標機、激光切割機等激光儀器及機床行業(yè)。制冷能力在10KW以上大型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應用于X－衍射儀、磁質(zhì)譜儀、疲勞試驗機、真空鍍膜機、塑料成形設備、激光切割機、X－熒光光譜儀、紅外光譜儀、差熱分析儀、核磁共振等具有高制冷恒溫要求設備。

DC低溫恒溫槽應用范圍：

對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：?jiǎn)尉磧艮D載、印刷機、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。 

其他產(chǎn)業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻：等離子熔接、自動(dòng)包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹(shù)脂成型機的成型部分等。

分析檢測機器的發(fā)熱部分的冷卻： 電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發(fā)熱部分、X線(xiàn)解析裝置的熱源、自動(dòng)脈沖調幅器的發(fā)熱部分原子吸光光度計的光源等。水箱可用優(yōu)的純凈水在機內外循環(huán)冷卻，可保證對水質(zhì)要求較高的精密儀器的正常運行，延長(cháng)精密儀器的使用壽命。 

常見(jiàn)問(wèn)題解答：

1、水循環(huán)使用了一年多都很正常，可現在制冷速度好像越來(lái)越慢了，在氣溫越高時(shí)越明顯？

答：水循環(huán)使用很簡(jiǎn)單，但是定期的維護保養工作還是不能忽視的。有很多看似故障的毛病其實(shí)就是沒(méi)有定期做維護保養引起的。水循環(huán)自身的電功率和制冷劑從負載中帶走的熱量都需要從前通風(fēng)罩處的散熱器中排走，如果前通風(fēng)罩上吸滿(mǎn)灰塵和柳棉等就會(huì )妨礙這些熱量的散發(fā)，制冷效果將大打折扣。一般來(lái)說(shuō)在正常的使用條件下制冷量下降都是因為通風(fēng)散熱效果太差或環(huán)境溫度太高引起的。

2、水循環(huán)以前使用都很正常，可現在發(fā)現噪音比以前大很多，這是什么原因？

答：前面提到過(guò)水循環(huán)的日常維護工作，這個(gè)問(wèn)題也與之有關(guān)。大家都知道，水里面有很少部分的雜質(zhì)，就是蒸餾水在加到水箱后也不可能*保證一點(diǎn)雜質(zhì)都沒(méi)有。對于水循環(huán)而言，一般溫度都設置在20℃，特別適應微生物的生長(cháng)和繁衍。時(shí)間長(cháng)了以后這些微生物就會(huì )堵塞水路的過(guò)濾器造成回水不暢，水泵就會(huì )有較大的噪音。有時(shí)這些微生物附在了換熱器的表面，造成換熱器的傳熱效果變差，制冷量變小。所以一定要嚴格按照說(shuō)明書(shū)中的要求做好日常維護工作，定時(shí)清洗內槽，長(cháng)期停用，保持槽內干燥。水循環(huán)里面好像有漏水，有時(shí)地面一會(huì )兒就有幾滴，是不是水路上有地方泄漏？ 一般來(lái)說(shuō)在正常使用的過(guò)程中，水路是不會(huì )有泄漏的。在環(huán)境溫度比較高空氣中的相對濕度又太大時(shí)，在水循環(huán)的水路中的水泵、水管接頭、外接水管處容易凝結露水，累積多了以后就滴到地面上了，不用擔心是水路中有漏水的地方。如果您對這很介意的話(huà)，打開(kāi)空調降低房間溫度或是除濕都可以避免露水的產(chǎn)生。