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    下降法晶體生長(cháng)爐氟化鎂晶體爐

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    產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    下降式晶體生長(cháng)爐技術(shù)規格書(shū)一·設備用途:主要用于LED半導體、太陽(yáng)能等工業(yè)晶體的提純、制備

    詳細介紹

  • 下降式晶體生長(cháng)爐

    技術(shù)規格書(shū)

    一·設備用途:

    主要用于LED半導體、太陽(yáng)能等工業(yè)晶體的提純、制備。

    二·設備特點(diǎn):

    本設備采用一體化設計,立式鐘罩式結構,爐膛材料采用優(yōu)質(zhì)的氧化鋁多晶纖維真空吸附制成,節能50%,爐體采用雙層爐殼結構,雙層爐殼之間裝有風(fēng)機,可以快速升降溫,爐殼表面溫度低,**整潔大方。

    三·主要技術(shù)參數

    1.**使用溫度:1600℃

    2.控溫區:兩區(一區高溫區,一區輔助加熱區)

    3.功率:                          15Kw±10%單相

    4.發(fā)熱材料:硅鉬棒(高溫區)電阻絲(輔助加熱區)

    5.恒溫區間:200mm(高溫區)

    6.爐膛內徑:120mm

    7.測溫系統:                   熱電偶

    8.控溫精度:                   ±1℃

    9.坩堝升降:位移行程 300mm

    慢速升降0.1-10mm/h(伺服控制)精度±0.01mm

              快速升降50-200mm/min(伺服控制)

    坩堝旋轉:坩堝轉速 1~50RPM


    四、結構組成

    1、爐體及爐體升降機構

    2、坩堝升降旋轉系統

    3、變壓器及聯(lián)接電纜

    4、 溫控系統

    五、結構說(shuō)明

    1、爐體及爐體升降系統:爐體殼體采用優(yōu)質(zhì)冷軋鋼板雙層結構設計技術(shù),殼體顏色漆經(jīng)過(guò)高溫烘烤而成,經(jīng)久耐用,爐膛采用高純氧化鋁多晶體纖維材料,分兩區***控溫,高溫區采用優(yōu)質(zhì)硅鉬棒為加熱元件,輔助溫區采用優(yōu)質(zhì)電阻絲為加熱元件,兩個(gè)溫區之間形成溫度梯度,從而保證晶體的正常生長(cháng),雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統,能快速對溫控系統降溫;該爐具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優(yōu)點(diǎn)。爐體整體做成一個(gè)圓筒的罩式結構,與固定在支架平臺上的爐底組成一個(gè)完整的爐膛,爐體配有一升降系統,可是爐體**升降,方便裝卸料。

    2、坩堝升降旋轉系統:坩堝升降采用伺服控制,位移精度可達0.01毫米,控制精度高,它是由一套線(xiàn)性模組和伺服電機,減速機組成,旋轉機構由旋轉電機減速機組成,升降和旋轉安裝在同***臺上,組成一個(gè)完整的機構,安裝在爐底中心位置,從而帶動(dòng)坩堝桿的升降與旋轉,坩堝桿的上部裝有一坩堝平臺,采用高溫陶瓷材料,經(jīng)久耐用。

    3、溫控系統:電爐的溫度控制采用可控硅功率控制器+低電壓大電流變壓器,可控硅功率控制器采用移相觸發(fā)方式來(lái)實(shí)現電壓的無(wú)級調節,從而達到自動(dòng)控制功率的目的。采用宇電50段溫控儀表,控溫精度高,可根據需要設定多段升溫曲線(xiàn),從而達到自動(dòng)控制溫度的目的。功能強大,操作方便,具有超溫,上線(xiàn)***聲光**功能??刂乒衩姘迳显O有液晶觸模屏,可顯示、設定坩堝升降速度,旋轉速度、位移等,直觀(guān)顯示系統各部件的工作狀態(tài),并可實(shí)時(shí)顯示記錄工況爐內的溫度??娠@示溫度、位移曲線(xiàn),記錄保存數據,數據也可以刪除、導出。爐子的所有動(dòng)作都有一臺PLC來(lái)完成,控制精確自動(dòng)化程度高。

    4、變壓器及聯(lián)接電纜:采用三相干式變壓器,聯(lián)接電纜采用銅排或軟電纜降低損耗,環(huán)保節能。


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