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    真空磁懸浮熔煉爐

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    產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    一、設備用途　　真空磁懸浮熔煉方法，是近些年來(lái)飛速發(fā)展的一種熔煉方法，主要用來(lái)制取高熔點(diǎn)、高純度和極活潑的金屬，在冶金和材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了廣泛的應用，顯示出良好的應用前景

    詳細介紹

  • 一、設備用途
    　　真空磁懸浮熔煉方法，是近些年來(lái)飛速發(fā)展的一種熔煉方法，主要用來(lái)制取高熔點(diǎn)、高純度和極活潑的金屬，在冶金和材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了廣泛的應用，顯示出良好的應用前景。
    二、設備特點(diǎn)

    1·真空磁懸浮熔煉，料與坩堝無(wú)接觸冶煉，干凈無(wú)污染。

    2·冶煉溫度高，設計溫度可達2100及以上，專(zhuān)門(mén)應用于高熔點(diǎn)難熔金屬，活潑金屬等冶煉提純。

    3·采用磁懸浮專(zhuān)用IGBT電源，配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝，懸浮效果好。

    4·采用兩級分子泵控制系統真空度高，極限可達5.0*10-4pa。

    三、主要技術(shù)參數

    1·設備型號：KZGF-0.25

    2、額定功率：65Kw

    3、容量（以鈦計）：0.25Kg

    4、輸入電源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz

    5、冷態(tài)極限真空度：6.67×10E-4Pa

    6、控制方式：模擬屏+電動(dòng)控制（可擴展plc+觸摸屏）




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