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    芬蘭PICOSUN原子層沉積系統

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    產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    芬蘭PICOSUN公司是ALD技術(shù)發(fā)明人TuomoSuntola創(chuàng )立的，與Picosun專(zhuān)家隊伍被稱(chēng)為ALD的

    詳細介紹

    芬蘭PICOSUN公司是ALD技術(shù)發(fā)明人Tuomo Suntola創(chuàng )立的，與Picosun專(zhuān)家隊伍被稱(chēng)為ALD的。

    Suntola于1974年發(fā)明ALD技術(shù)，因此獲得半導體行業(yè)European SEMI 2004獎。

    PICOSUN公司憑借其杰出的生產(chǎn)型與科研型產(chǎn)品，于2022年6月加入美國應用材料公司。


    PICOSUN產(chǎn)品分為科研型與生產(chǎn)型。

    科研型產(chǎn)品有：

    標準型PICOSUN™ R-200 Standard，只有熱法原子層沉積系統

    高級型PICOSUN™ R-200 Advanced，有熱法原子層沉積系統與等離子體增強原子層沉積系統

    高級型ALD可以添加前沿的微波等離子體輔助增強模塊Microwave Plasma, 這種微波等離子體增強原子層沉積系統在顆粒、薄膜致密性表現更好，同時(shí)有可能沉積具有挑戰性的一些氮化物薄膜，如氮化硅等。






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