的第二代全譜光譜儀技術(shù)(數字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù))、通道不再受限制
引進(jìn)歐洲技術(shù)、國內生產(chǎn)CCD全譜真空型光譜儀的制造商
基體范圍內通道改變、增加不需費用
可升級為其他基體,無(wú)須變動(dòng)增加硬件
優(yōu)良的數據穩定性,同一樣品不同的時(shí)間段分析,可獲得良好的數據一致性
體積小、重量輕, 移動(dòng)安裝方便
高集成度、高可靠性、高穩定性
節電、節材、能耗只是普通光譜儀50%
光譜儀光學(xué)系統:
●光室:結構簡(jiǎn)潔,光室潔凈,系統穩定,使用壽命長(cháng),終身免維護(建議: 恒溫真空型,是世界光譜儀行業(yè)采用的主流技術(shù))
●光室真空泄漏率:真空泵自動(dòng)啟停功能,24小時(shí)真空泵啟動(dòng)工作不得超過(guò)4次,每次不得超過(guò)20分鐘
●帕邢-龍格結構,羅蘭圓光學(xué)系統
●羅蘭圓直徑:400mm
●有效波長(cháng)范圍:130 – 800 nm
●探測器:多塊高性能線(xiàn)陣CCD
●光室溫度:自動(dòng)控制恒溫:34℃±0.3℃
●像素分辨率:10pm
●光柵刻線(xiàn):3600 l/mm
●一級光譜線(xiàn)色散率:1.2 nm/mm
●外部入射窗口,方便清洗及更換
●的漂移校正功能-得益于自動(dòng)尋峰功能(精確度達到0.1像素)
●的紫外波段靈敏度,得益于全新改良的真空技術(shù)
數字等離子發(fā)生器:
●全數字等離子火花光源技術(shù)
●高效得益于緊湊的設計和半導體控制技術(shù)
●高能預燃技術(shù) (HEPS)
●激發(fā)參數可通過(guò)用戶(hù)界面由用戶(hù)根據實(shí)際需求自定義進(jìn)行設置
●頻率100 – 1000Hz
●電流1-400A
優(yōu)化的樣品臺:
●開(kāi)放式樣品臺設計,滿(mǎn)足大樣品測試要求
● 4mm樣品臺分析間隙
●“噴射電極"技術(shù)輕松應對小樣品及復雜幾何形狀樣品
●低氬氣消耗, 待機時(shí):無(wú)須待機流量
●通用可調樣品適配器
●不同基體可方便更換相應火花臺
●優(yōu)化的雜質(zhì)排出系統
●牢固的銅制樣品臺散熱效果
計算機及讀出系統:
●國產(chǎn)品牌電腦:聯(lián)想
數據輸出:
●數據以多種數據形式存儲
●可接駁各種標準打印設備
●數據可通過(guò)互聯(lián)網(wǎng)遠程發(fā)送傳輸
軟件系統
● Windows XP操作系統
●中文光譜儀操作軟件
●可選數據維護程序
電源:
● AC220 V /50 Hz
●功率1500 W
●平均功率1200 W
●待機功率70 W
● 16 A慢熔保險絲
氬氣要求:
●純氬氣, 99.999%; 氬氣減壓閥(專(zhuān)配減壓閥);
●氣壓4-5bar,
●銅管傳輸