北京環(huán)創(chuàng )科學(xué)儀器有限公司
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| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號LPCVD
品 牌
廠(chǎng)商性質(zhì)其他
所 在 地北京市
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更新時(shí)間：2024-11-22 16:40:00瀏覽次數：60次
聯(lián)系我時(shí)，請告知來(lái)自 紡織服裝機械網(wǎng)詳細說(shuō)明生產(chǎn)的系列熱工設備：【LPCVD產(chǎn)品簡(jiǎn)介】LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應并淀積形成穩定固體薄膜
生產(chǎn)的系列熱工設備：
【LPCVD產(chǎn)品簡(jiǎn)介】
LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應并淀積形成穩定固體薄膜。由于工作壓力低.氣體分子的平均自由程和擴散系數大，故可采用密集裝片方式來(lái)提高生產(chǎn)率，并在襯底表面獲得均勻性良好的薄膜淀積層。LPCVD 用于淀積Poly-Si、Si3N4、SiO2、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜。廣泛應用于半導體集成電路、電力、電子、光電子及MEMS等行業(yè)的生產(chǎn)工藝中。
【產(chǎn) 品 特 點(diǎn)】
◆對工藝時(shí)間、溫度、氣體流量、閥門(mén)動(dòng)作、反應室壓力實(shí)現自動(dòng)控制。
◆采用進(jìn)口壓力控制系統，閉環(huán)控制，穩定性強。
◆采用進(jìn)口耐腐蝕不銹鋼管件、閥門(mén)，確保氣路氣密性。
◆具有完善的報警功能及安全互鎖裝置。
◆具有良好的人機界面，靈活的工藝性能。
◆采用工控機技術(shù)，具有可靠地恒壓調整控制功能。
【主要技術(shù)指標】
●適用硅片尺寸： 4~6"
●工作溫度及精度： 350 ~ 1000℃±1℃
●恒溫區長(cháng)度：700mm （可根據用戶(hù)需要設計）
●升溫速率：0 ~ 15℃/分鐘 可調
●系統極限真空度：0.8 Pa
●工作壓力范圍：30 ~ 200Pa 可調
●淀積膜種類(lèi)：Si3N4 SiO
●淀積膜均勻性：片內 ＜±3%; 片間 ＜±3%; 批間 ＜±4%
●淀積速率：200 ～300 ?/min （與淀積材料和工藝有關(guān)）
●操作方式： 手動(dòng)、自動(dòng)
●滿(mǎn)足半導體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積Si O2、Si 3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝
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