各地的金屬制造商在整個(gè)冶煉過(guò)程中依靠直讀光譜儀（OES）進(jìn)行生產(chǎn)控制。在整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中，需要檢查合金的確切化學(xué)成分或熔體配方，以確保成品質(zhì)量符合所要求的規格。
從與客戶(hù)的互動(dòng)來(lái)看，他們選擇日立的固定式OES
直讀光譜儀的五大原因是：
1. 易用性
由于待分析的樣品量大和生產(chǎn)計劃嚴格，日立的大多數客戶(hù)優(yōu)先選擇的方式是保持分析簡(jiǎn)單性。高水平分析應該盡可能簡(jiǎn)單，即將樣品置于火花臺上、測量樣品并讀取結果，而已。
日立的所有固定式火花直讀光譜儀都簡(jiǎn)單易學(xué)，只需少量培訓并學(xué)會(huì )使用SpArcfire即可，SpArcfire是一款現代化的直觀(guān)操作軟件，具有的用戶(hù)界面。日立的所有直讀光譜儀上都預裝牌號數據庫，僅需幾個(gè)步驟，用戶(hù)便可輕松訪(fǎng)問(wèn)這一超大的金屬數據庫。預裝的FP-LIMS統計控制軟件包設置了“易用性”閉環(huán)，客戶(hù)可在此處存儲結果，創(chuàng )建統計數據以及單獨的控制圖。
2. 的光學(xué)設計
日立的OES光譜儀無(wú)需更高的運行成本。憑借三十多年的經(jīng)驗，日立設計的儀器更加有效、經(jīng)濟實(shí)惠、智能，且更加方便用戶(hù)使用。
日立的光學(xué)系統經(jīng)過(guò)特殊設計，覆蓋119至670納米（按需可至766納米）的波長(cháng)范圍，使操作員能夠輕松獲得光譜漂移的初始信號并糾正問(wèn)題。因此，在每次分析期間，操作員可自動(dòng)監控和校正所有相關(guān)通道的光譜位置。如果分析儀本身維護良好，則光譜漂移不應導致維護成本激增。
3. 綜合成本低
由于企業(yè)購買(mǎi)任何設備后都會(huì )產(chǎn)生大量財務(wù)成本，因此可預測的低運行和維護成本至關(guān)重要。憑借日立的一系列固定式OES光譜儀，各種規模的企業(yè)都能夠找到適合其過(guò)程控制需求和分析要求的分析儀。每臺日立火花光譜儀都為客戶(hù)提供快速的結果和可靠的高性能，以及堅固耐用的設計。日立的OES系列在德國工廠(chǎng)的生產(chǎn)過(guò)程中經(jīng)過(guò)嚴格的測試，并配備經(jīng)過(guò)優(yōu)化的功率和氬氣消耗功能，以確保實(shí)現較低綜合成本；日立的OES系列將為冶煉行業(yè)企業(yè)提供質(zhì)量控制，同時(shí)通過(guò)縮短冶煉周期以加快其生產(chǎn)過(guò)程。
憑借準確的分析能力，企業(yè)將能夠產(chǎn)生可觀(guān)的盈利能力，不會(huì )過(guò)度購買(mǎi)，并不斷地以更低的成本準確地達到質(zhì)量目標。
4. 體積小，但性能高，精度高
日立遍布各地的客戶(hù)因應其終客戶(hù)的需求或生產(chǎn)產(chǎn)品的性質(zhì)而提出的要求也有所不同。在過(guò)去的十年中，“半導體”探測器在技術(shù)上有了巨大的飛躍，日立是一家將CMOS探測器集成至直讀光譜儀中的制造商。日立基于CCD（電荷耦合裝置）和CMOS（互補金屬氧化物半導體）的直讀光譜儀使儀器結構緊湊，從而給予用戶(hù)極大的靈活性。
CCD和CMOS探測器不僅僅是一臺探測器/一個(gè)元件。它們的作用還包括：此類(lèi)探測器可以更快速地采集樣品發(fā)射的所有譜線(xiàn)；探測器使分析儀能夠同時(shí)捕獲整個(gè)相關(guān)分析光譜的所有波長(cháng)。因此，盡管CCD和CMOS的體積小，但其性能強勁。日立OES光譜儀將光學(xué)設計與此等探測器的使用相結合，為擁有多項應用領(lǐng)域的客戶(hù)帶來(lái)更多益處。
5. 保持業(yè)務(wù)連續性
一位客戶(hù)近說(shuō)，“在10多年的合作過(guò)程中，高質(zhì)量和優(yōu)良性能以及可靠快速的服務(wù)是我們選擇日立的標準”。
無(wú)論儀器的設計多么精良，其具有多么高的技術(shù)含量，儀器制造商的響應和支持在與確立客戶(hù)關(guān)系方面至關(guān)重要。日立努力通過(guò)快速響應的支持（現場(chǎng)或遠程、靈活的服務(wù)協(xié)議、分析儀審核）將其客戶(hù)的停機時(shí)間降至更低，與其客戶(hù)建立長(cháng)期關(guān)系，并保持他們的業(yè)務(wù)連續性。
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