Nicomp® 3000
納米激光粒度儀

動(dòng)態(tài)光散射儀

具有50+年歷史
專(zhuān)為復雜體系提供高精度粒度解析方案
助您探索納米宇宙的精微奧秘！

0.9°步進(jìn)型多角度（MADLS）真正的多角度模塊

不同粒徑的納米粒子，尤其是粒徑遠小于激光波長(cháng)的粒子在傳統的動(dòng)態(tài)光散射理論下，力度分布（PSD）會(huì )失去一些細節。Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列開(kāi)創(chuàng )性地配備了可以從14.4°-180°范圍內，步長(cháng)0.9°的多角度模塊，對特殊樣品（如極小粒徑）可以選用合適的角度進(jìn)行檢測，顯著(zhù)提高對復雜體系的分辨力。

復用型直插靶電級，減少耗材成本

Zeta電位檢測模塊，采用雙列直插式靶電極，清潔方便，易于清洗，可以反復使用。既保護了環(huán)境，也大大減少了使用一次性可丟棄的電極模塊的成本。

專(zhuān)有的Nicomp®多峰分布，可分辨1:2的多組分

Entegris（PSS）Nicomp® 3000系列搭載了Nicomp®多峰算法，可以有效區分不同粒徑（1：2的不同組分），為復雜體系和多組分體系提供了強有力的生產(chǎn)工具。

（下圖為同一復雜體系樣品分別在高斯算法和Nicomp®算法所呈現的結果）

高斯粒徑分布圖

Nicomp®多峰粒徑分布圖

自動(dòng)稀釋模塊和自動(dòng)進(jìn)樣模塊，減少試錯成本和人工誤差

Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列在動(dòng)態(tài)光散射法上應用了自動(dòng)稀釋模塊和自動(dòng)進(jìn)樣模塊，既可以有效避免人工稀釋所帶來(lái)的試錯成本和誤差，更可以實(shí)現檢測的自動(dòng)化操作，為大批量的檢測提供了良好的解決方案。

產(chǎn)品介紹
PRODUCT INTRODUCTION
   

Nicomp® Z3000納米粒度及ZETA電位分析儀

檢測范圍

粒徑檢測：0.3nm-10.0μm

Zeta電位：-500mV-+500mV

應用領(lǐng)域

MINI DLS在線(xiàn)納米激光粒度儀/在線(xiàn)動(dòng)態(tài)光散射儀

無(wú)需校準
*hydrodynamic radius，流體動(dòng)力學(xué)半徑

應用領(lǐng)域

均質(zhì)機/研磨機下游的粒度控制
脂質(zhì)體和乳劑等納米制劑產(chǎn)品的生產(chǎn)監控
CMP漿料（研磨液）的磨損監控
納米材料生產(chǎn)過(guò)程中粒度監控

儀器原理
PRINCIPLE
   

動(dòng)態(tài)光散射方法(Dynamic Light Scattering)原理示意圖

Zeta電位工作原理示意圖

Zeta電位用于測試顆粒之間排斥力 ，是判斷體系穩定性的測量手段。

布朗運動(dòng)的一個(gè)重要特點(diǎn)是：小粒子運動(dòng)快速，大顆粒運動(dòng)緩慢。由于粒子在不停地運動(dòng)，散射光斑也將出現移動(dòng)。由于粒子四處運動(dòng)，散射光的相位疊加，將引起光亮區域和黑暗區域呈光強方式增加和減少或以另一種方式表達，光強也成波動(dòng)形式。即：粒子的布朗運動(dòng)導致光強的波動(dòng)。

通過(guò)拉普拉斯逆轉換，將光信號轉換成指數光譜的形式進(jìn)行數據處理，將雜亂無(wú)章的波動(dòng)曲線(xiàn)轉換成有規則的自相關(guān)C(t)函數曲線(xiàn)。

通過(guò)自相關(guān)C(t)函數曲線(xiàn)得到衰變常數τ，通過(guò)下面公示得到擴散系數D；

1/τ= 2DK2 （K是散射光波矢量，是一個(gè)常數）

最后在通過(guò) Stokes-Einstein 方程，得到粒徑大小R:

公式中：
K = 玻爾茲曼常數；
T = 絕對溫度；
h = 溶液的剪切粘度；
R = 粒子大小的半徑；
D = 擴散系數；

Nicomp® 3000系列設備檢測原理圖

Nicomp® 3000系列納米激光粒度儀采用動(dòng)態(tài)光散射原理檢測分析樣品的粒度分布?；诙嗥绽针娪竟馍⑸湓恚―oppler Electrophoretic Light Scattering，ELS）檢測ZETA電位。其主要用于檢測納米級別及微米級別的體系，粒徑檢測范圍0.3nm-10μm，ZETA電位檢測范圍為±500mV。動(dòng)態(tài)光散射方法（DLS）從傳統的光散射理論中分離，關(guān)注瑞利散射區的小顆粒，主要用于檢測納米級別的分散體系。動(dòng)態(tài)光散射是通過(guò)光強值的波動(dòng)得到自相關(guān)函數，從而獲得衰減時(shí)間常量τ，進(jìn)而計算獲得粒子的擴散速度D（Diffusion Coefficient，擴散系數），代入Stokes-Einstein方程式，就可以計算得到顆粒的半徑。

Zeta電勢電位測定：Nicomp® Z3000結合了動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)（DLS）和電泳光散射法（ELS）,實(shí)現了同機測試亞微米粒子分布和ZETA電勢電位。ELS是將電泳和光散射結合起來(lái)的一種新型光散射，它的光散射理論基礎是準彈性碰撞理論，在實(shí)驗時(shí)通過(guò)在樣品槽中外加一個(gè)外電場(chǎng)，帶電粒子即會(huì )以固定速度向與帶電粒子電性相反的電極方向移動(dòng)，與之相應的動(dòng)態(tài)光散射光譜產(chǎn)生多普勒漂移，這一漂移正比于帶電粒子的移動(dòng)速度，因此由實(shí)驗測得的譜線(xiàn)的漂移，就可以求得帶電粒子的電泳速度，從而得到電位值。通過(guò)測試顆粒之間的排斥力，判斷體系穩定性的測量手段之一。

相位分析法（PALS）:用相位（Phase）變化的分析取代原先頻譜的漂移，不僅使Zeta電位分析的精度及穩定性有了顯著(zhù)的提高，而且突破了水相體系的限制，對有機相體系同樣能提供Zeta電位的精確分析。

產(chǎn)品優(yōu)勢
PRODUCT HIGHLIGHT
   

0.9°步進(jìn)型多角度（MADLS）真正的多角度模塊

不同粒徑的納米粒子，尤其是粒徑遠小于激光波長(cháng)的粒子在傳統的動(dòng)態(tài)光散射理論下，力度分布（PSD）會(huì )失去一些細節。Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列開(kāi)創(chuàng )性地配備了可以從14.4°-180°范圍內，步長(cháng)0.9°的多角度模塊，對特殊樣品（如極小粒徑）可以選用合適的角度進(jìn)行檢測，顯著(zhù)提高對復雜體系的分辨力。

專(zhuān)有的Nicomp®多峰分布，可分辨1:2的多組分

Entegris（PSS）Nicomp® 3000系列搭載了Nicomp®多峰算法，可以有效區分不同粒徑（1：2的不同組分），為復雜體系和多組分體系提供了強有力的生產(chǎn)工具。
（下圖為同一復雜體系樣品分別在高斯算法和Nicomp®算法所呈現的結果）

高斯粒徑分布圖

Nicomp®多峰粒徑分布圖

超高分辨率的納米檢測精度

通過(guò)蛋白質(zhì)樣品的測試，Nicomp® 納米激光粒度儀對于小于10nm的粒子，依然顯示超高的分辨率和準確度。Nicomp® 納米激光粒度儀的這種超高分辨率可以有效幫助研究人員更準確更真實(shí)的檢測出樣品粒度分布。

如下圖，蛋白質(zhì)單聚體的粒徑大小為1.7nm

蛋白質(zhì)雙聚體的理論粒徑大小為1.7nm的兩倍3.4nm。Nicomp®  3000系列測得的結果為2.9nm左右。這個(gè)數值符合實(shí)際粒徑大小。

針對更復雜的四聚體，其理論粒徑為單聚體的4倍6.8nm。Nicomp® 3000系列測得的結果為5.7nm。這個(gè)數值符合實(shí)際粒徑大小。

將上述3個(gè)數據疊加，我們可以清晰地看到在10nm以下仍然能得到粒徑相差很小的3個(gè)峰，顯示Nicomp® 3000系列儀器有超高的分辨率和靈敏度。

自動(dòng)稀釋模塊和自動(dòng)進(jìn)樣模塊，減少試錯成本和人工誤差

Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列在動(dòng)態(tài)光散射法上應用了自動(dòng)稀釋模塊和自動(dòng)進(jìn)樣模塊，既可以有效避免人工稀釋所帶來(lái)的試錯成本和誤差，更可以實(shí)現檢測的自動(dòng)化操作，為大批量的檢測提供了良好的解決方案。

Multiple sample trays available

3×7 samples-30mm tube（50mL）
4×10 samples-20mm tube（20mL）
5×12 samples-16mm tube（14mL）
6×15 samples-13mm tube（7mL）

復用型直插靶電級，減少耗材成本

Zeta電位檢測模塊，采用雙列直插式靶電極，清潔方便，易于清洗，可以反復使用。既保護了環(huán)境，也大大減少了使用一次性可丟棄的電極模塊的成本。

PMT&APD雙檢測器

Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列可以裝配高靈敏度的光電倍增管檢測器以及雪崩二極管檢測器，相比較傳統的光電倍增管有7-10倍放大增益效果。

軟件工作站
SOFTWARE WORKSTATION
   

全面的權限管理

靈活設置用戶(hù)管理權限，增加安全性?？稍O置密碼復雜度，自動(dòng)登出時(shí)間，密碼修改時(shí)限，滿(mǎn)足CSV計算機系統驗證。

1.用戶(hù)管理
2.允許編輯測樣方法
3.數據庫管理
4.鏈接驅動(dòng)
4.允許用戶(hù)用儀器測量樣品
5.對主機中固件更新（工程師權限）
6.密碼權限設置
7.可看、輸出、更改數據自動(dòng)備份位置
8.更改重新計算測試數據
9.導入曲線(xiàn)
10.曲線(xiàn)校準（不對用戶(hù)開(kāi)放）
11.增加減少報告模板
12.允許打印或導出報告
13.刪除測樣數據（僅軟件界面看不到，數據庫數據依然存在，并可還原）
14. 刪除測樣數據
15. 刪除報告
16. 刪除文件

完整的審計追蹤

具備詳細的審計追蹤記錄，支持日志導出打印，記錄用戶(hù)登錄期間所有操作，可根據操作類(lèi)型、時(shí)間、項目等檢索。

多種數據備份方式

數據備份支持手動(dòng)、自動(dòng)備份到文件路徑。備份內容包含完整數據內容、操作方法、審計追蹤記錄日志等。

軟件測試界面

簡(jiǎn)潔明了，支持不同權重，不同分析模型實(shí)時(shí)切換，可快速查詢(xún)不同指標。

儀器參數
INSTRUMENT SPECIFICATION