一、概述：
該設備采用微機控制，為機電分立式半自動(dòng)化磁粉探傷設備，控制電路采用歐姆龍可編程序控制器（PLC）集中控制，具有手動(dòng)控制和自動(dòng)控制功能，手動(dòng)控制時(shí)可進(jìn)行設備的每個(gè)功能動(dòng)作的手動(dòng)操作，自動(dòng)控制時(shí)設備自動(dòng)執行PLC內部自動(dòng)程序動(dòng)作，實(shí)現人工吊裝上料 →夾緊→ 轉動(dòng)、噴淋→線(xiàn)圈伸出→磁化→?！?/span>磁化 →線(xiàn)圈退出→轉動(dòng)觀(guān)察→線(xiàn)圈伸出退磁→松夾→下料等一系列動(dòng)作的半自動(dòng)化控制, 設備能按規定程序完成除觀(guān)察以外的全部探傷過(guò)程，所有程序動(dòng)作的時(shí)間根據需要可進(jìn)行適時(shí)調整，程序循環(huán)往復自動(dòng)執行。
二、主要技術(shù)參數：
1、周向磁化電流：AC： 0 - 4000A ，有效值，帶斷電相位功能；
2、縱向磁化磁勢：AC 0-24000AT ，有效值，帶斷電相位功能；
3、磁化方式：周向磁化、縱向磁化、復合磁化；
4、電極間距：200-1800mm 可調；
5、運行方式：手動(dòng)/自動(dòng)；
6、夾緊行程： 75mm；
7、夾持方式：氣動(dòng)夾緊， 氣壓 ≥0.4MPa可調(氣源用戶(hù)自備)；
8、磁化線(xiàn)圈內徑：450mm；
9、紫外線(xiàn)強度：距工件380mm處強度≥4000μw/cm2；
10、退磁效果：退磁后的剩磁 ≤0.3mT（240A/m）；
11、探傷節拍：65S/件；
12、電源：三相四線(xiàn) 380V，50Hz ，瞬時(shí)*50KVA。
三、工藝流程 ：
上料 → 夾緊→ 旋轉、 噴淋→ 線(xiàn)圈伸出→ 磁化→ ?！?
再磁化 → 線(xiàn)圈退出→ 轉動(dòng)觀(guān)察→ 退磁→ 松夾→ 下料
