儀器介紹
W5型全譜直讀光譜儀可快速的對金屬材料樣品進(jìn)行元素測定。光學(xué)系統采用CMOS檢測器，光譜范圍覆蓋全部典型材料。無(wú)論從低含量元素還是到高含量的元素，它都能******、******的分析。公司在行業(yè)內擁有光譜多年的生產(chǎn)經(jīng)驗積累，針對不同材料、不同要求，設計了這款全新的、更具性?xún)r(jià)比的全譜直讀光譜儀，可滿(mǎn)足金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉用于質(zhì)量監控、材料牌號識別、材料研究和開(kāi)發(fā)的應用。
產(chǎn)品特點(diǎn)
l 性能的光學(xué)系統
² 帕邢-龍格結構凹面光柵，全譜覆蓋，滿(mǎn)足客戶(hù)對全元素檢測的需求。
² 直射式光學(xué)技術(shù)及采用MgF材料制作的光學(xué)器件，******紫外區域的高性能。
² 高分辯率多CMOS讀出系統，更低的暗電流，更好的檢出限，更高的穩定性，更強的靈敏度，滿(mǎn)足N的分析要求。
l 智能數字激發(fā)光源
² 全數字化智能復合光源DDD技術(shù)，帶來(lái)分析性能。
² 緊湊的設計及半導體控制技術(shù)，使得光源具有更好的穩定性、更強的******性。
² 高能預燃技術(shù)（HEPS),激發(fā)參數調整，充分滿(mǎn)足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發(fā)要求。
l 激發(fā)臺直接將激發(fā)光導入光學(xué)系統
² 開(kāi)放式樣品臺，滿(mǎn)足大樣品測試要求。
² 變換電極可對小樣品及復雜幾何形狀樣品分析有更好的性能
² 視頻識別技術(shù)，確保樣品臺激發(fā)安全，可監測樣品臺的全景。
l 智能集成氣路模塊
² 智能氬氣流設計及粉塵收集清理裝置
² 的氬氣噴射技術(shù)，有效消除激發(fā)過(guò)程中等離子體的飄移，確保CCD檢測器能夠觀(guān)測高溫區域光信號，提高精度和穩定性。
² 激發(fā)后，脈沖式氬氣吹掃，提高粉塵去除效果，提升儀器的短期和長(cháng)期穩定性。
l 智能真空測量和控制
² 真空系統******程控，在******真空度的同時(shí)減少真空泵的運行時(shí)間，
² 雙級設置，在儀器不運行的情況下，開(kāi)啟待機真空運行狀態(tài)。
² 多級真空隔離措施及增加濾油裝置，保障光學(xué)元器件在******的環(huán)境中工作。
l 透鏡清理裝置
² 不銹鋼真空球閥，在清理透鏡時(shí)有良好的隔離效果。
² 單板式透鏡設計，拆裝方便。
² 交叉機械裝置，在未解除隔離的情況有效保護光學(xué)系統。
應用領(lǐng)域
技術(shù)參數：
| 項目 | 指標 |
| 檢測基體 | 鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基、錳基、鉻基等13個(gè)基體 |
| 光學(xué)系統 | 帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統 |
| 波長(cháng)范圍 | 165~580nm（可安裝上下限檢測器擴大波長(cháng)范圍） |
| 光柵焦距 | 400mm |
| 探 測 器 | 高分辯率多CMOS圖像傳感器 |
| 光源類(lèi)型 | DDD數字激發(fā)光源，高能預燃技術(shù)（HEPS） |
| 放電頻率 | 100-1000Hz |
| 放電電流 | 不高于 400A |
| 檢測時(shí)間 | 依據樣品類(lèi)型而定，一般在25s左右 |
| 電極類(lèi)型 | 鎢材噴射電極 |
| 分析間隙 | 樣品臺分析間隙:3.4mm |
| 真空系統 | 真空軟件自動(dòng)控制、監測 |
| 光室恒溫 | 34℃，溫度自動(dòng)監測 |
| 氬氣純度 | 99.999% |
| 氬氣壓力 | 0.5MPa |
| 工作電源 | AC220V 50/60Hz |
| 儀器尺寸 | 860*680*438mm |
| 儀器重量 | 約100kg |
