產(chǎn)品概述
CX-9800直讀光譜儀
優(yōu)勢：
1、第二代CCD全譜光譜儀制造技術(shù)（數字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù)）、通道不受限制 ；
1、可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍，可根據客戶(hù)需要選擇通道元素；
2、分析速度快捷，20秒內測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過(guò)設置預燃時(shí)間及標線(xiàn)，使儀器用較短的時(shí)間達到好的分析效果；
3、光學(xué)系統采用真空恒溫光室， 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導入真空光室，實(shí)現光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結果準確，重現性及長(cháng)期穩定性好；
4、特殊的光室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；
5、自動(dòng)光路校準，光學(xué)系統自動(dòng)進(jìn)行譜線(xiàn)掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動(dòng)識別特定譜線(xiàn)，與原存儲線(xiàn)進(jìn)行對比，確定漂移位置，找出分析線(xiàn)當前的像素位置進(jìn)行測定；
6、開(kāi)放式的電極架設計，可以調整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
7、工作曲線(xiàn)采用標樣，預做工作曲線(xiàn)，可根據需要延伸及擴展范圍，每條曲線(xiàn)由多達幾十塊標樣激發(fā)生成，自動(dòng)扣除干擾；
8、HEPS數字化固態(tài)光源，適應各種不同材料 ；
9、固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長(cháng)期運行穩定性；
10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；
11、合理的氬氣氣路設計，使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短，為用戶(hù)節省氬氣，氬氣消耗為普通光譜儀的一半左右；
12、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長(cháng)，并設計了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易；
13、高性能DSP及ARM處理器，具有數據采集及控制功能并自動(dòng)實(shí)時(shí)監測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊 的運行狀況；
14、儀器與計算機之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無(wú)關(guān)，使儀器具有更好的適用性；
15、核心器件全部，保證了儀器的品質(zhì)。
技術(shù)參數
光學(xué)系統 | |
光學(xué)結構 | 帕邢-龍格結構的全譜真空型光學(xué)系統 |
光室溫度 | 自動(dòng)控制恒溫：35℃±0.5℃ |
波長(cháng)范圍 | 160-800nm |
光柵焦距 | 350 mm |
光柵刻線(xiàn) | 3600 l/mm |
一級光譜線(xiàn)色散率 | 1.2 nm/mm |
探測器 | 多塊高性能線(xiàn)陣CCD |
平均分辨率 | 10pm/pixel |
激發(fā)臺 | |
氣體 | 沖氬式 |
氬氣流量 | 激發(fā)時(shí)3-5L/min， 待機時(shí):無(wú)須待機流量 |
電極 | 鎢材噴射電極技術(shù) |
吹掃 | 點(diǎn)擊自吹掃功能 |
補償 | 熱變形自補償設計 |
分析間隙 | 樣品臺分析間隙：4mm |
激發(fā)光源 | |
類(lèi)型 | HEPS數字化固態(tài)光源 |
頻率 | 100-1000Hz |
放電電流 | 1-80A |
特殊技術(shù) | 放電參數優(yōu)化設計 |
預燃 | 高能預燃技術(shù) |
數據采集系統 | |
處理器 | ARM處理器，高速數據同步采集處理 |
接口 | 基于DM9000A的以太數據傳輸 |
電源與環(huán)境要求 | |
輸入 | 220VAC 50Hz |
功率 | 分析時(shí)大700W，待機狀態(tài)40W |
工作溫度 | 10-30℃（該溫度范圍內溫度變化不大于5℃/h） |
工作濕度 | 20-80% |
尺寸與重量 | |
尺寸 | 800*450*500 mm |
重量 | 85Kg |
