TMP-2B研磨拋光機
TMP-2B研磨拋光機概述
TMP-2B研磨拋光機為雙盤(pán)雙控制臺式機,適用于對試樣的粗磨、精磨和拋光操作,可同時(shí)供兩人工作。本機采用微處理系統,雙盤(pán)都可單獨直接獲得50-1000轉/分鐘之間的轉速和150與300轉/分鐘的兩級定速,從而使本機具有更廣泛的應用性,本機具有冷卻裝置,可以在研磨拋光的同時(shí)對試樣進(jìn)行冷卻,以防止因試樣過(guò)熱而破壞金相組織。該機使用方便、安全可靠,是工廠(chǎng)、科研單位以及大專(zhuān)院校實(shí)驗室的理想制樣設備。
TMP-2B研磨拋光機技術(shù)參數
- 工作電壓:220V 50HZ
- 拋光盤(pán)直徑:φ200mm
- 無(wú)極變速,50-1000轉
- 輸入功率:220V 50HZ
- 外形尺寸:720*740*370mm
- 重 量:50kg
TMP-2B研磨拋光機基本配置
TMP-2B研磨拋光機可選附件