儀器簡(jiǎn)介：
·標準模式
·工業(yè)規格
·適合科研中心
技術(shù)參數：
測量方法：非接觸式
測量原理：反射計
類(lèi)型：手動(dòng)的
測量樣本大?。?≤ 8", 12"
活動(dòng)范圍：200mm x 200mm(8"), 300mm x 300mm(12")
測量范圍：100?~ 35?(Depends on Film Type)
光斑尺寸：40?/20?, 4?(option)
測量速度：1~2 sec./site
焦點(diǎn)： Coaxial Coarse and Fine Focus Controls
附帶照明：12v 100W Tungsten-Halogen Lamp
尺寸： 500 x 610 x 640 mm
重量：45Kg
可選項目：
Programmable Auto Z Stage
參考樣品(K-MAC or KRISS or NIST)
CCD攝像頭
透射模塊
應用領(lǐng)域：
半導體：Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS + Si, Ge, SiGe...
介質(zhì)材料：SiO2, TiO2, TaO5, ITO, ZrO2, Si3N4, Photoresist, ARC,...
平板行業(yè)：(包括 LCD, PDP, OLED, ): a-Si, n+-a-Si, Gate-SiNx MgO, AlQ3, ITO, PR, CuPc, NPB, PVK, PAF, PEDT-PSS, Oxide, Polyimide...
光學(xué)涂層：硬度涂層、增反射薄膜、Color Filters、封裝及功能薄膜...
太陽(yáng)能電池：Doping a-Si(i-type, n-type, p-type), TCO(ZnO, SnO, ITO..)
聚合物： PVA, PET, PP, Dye, Npp, MNA, TAC, PR...
Recordable materials: Photosensitive drum, Video head, Photo masks, Optical disk
其他：示波管上的光阻薄膜材料與掩膜板、金屬薄膜、激光鏡...
主要特點(diǎn)：
測量迅速，操作簡(jiǎn)單
非接觸式，非破壞方式
優(yōu)良的重復性和再現性
用戶(hù)易操作界面
各個(gè)視圖和儲存數據的打印功能
SY5520-3GD-C4 SY5420-6GD-C8 SY5420-6GD-C6 SY5420-6GD-C4 SY5420-5GD-C8 SY5420-5GD-C6 XBY-4206 SY5420-5GD-C4 XBY-4106 SY5420-4GD-C8 XBY-4605 SY5420-4GD-C6 XBY-4305 SY5420-4GD-C4 SY5420-3GD-C8 SY5420-3GD-C6 SY5420-3GD-C3 SY5320-6GD-C6 SY5320-6GD-C4 SY5320-5GD-C8 XBY4206S SY5320-5GD-C4 XBY4106S SY5320-4GD-C8 XBY4605S SY5320-4GD-C4 SY5320-3GD-C8 XBY4305S SY5320-3GD-C6 SY5320-3GD-C4 XBD-5305 XBD-5205 XBD-5105 SY5220-6GD-C8 XBD-4504 SY5220-6GD-C6 SY5220-6GD-C4 SY5220-5GD-C8 SY5220-5GD-C6 XBD-4304W SY5220-5GD-C4 XBD-4204
