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    LEA 50kV 低能量(14C)碳十四小型加速器質(zhì)譜系統

    參考價(jià)面議
    具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準
    • 公司名稱(chēng)上海續波光電技術(shù)有限公司
    • 品       牌
    • 型       號
    • 所  在  地上海
    • 廠(chǎng)商性質(zhì)生產(chǎn)廠(chǎng)家
    • 更新時(shí)間2022/8/26 9:53:39
    • 訪(fǎng)問(wèn)次數341
    產(chǎn)品標簽:

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      上海續波光電技術(shù)有限公司是一家專(zhuān)業(yè)從事高性能薄膜沉積及處理設備、光電材料及軟件、金剛石合成及應用、激光等離子體仿真和診斷等產(chǎn)品及服務(wù)進(jìn)口的技術(shù)貿易服務(wù)型公司。公司至今已與法國、德國、英國、瑞士、意大利、美國、加拿大、日本、俄羅斯等國家的多家企業(yè)建立了戰略合作關(guān)系,并服務(wù)于國內從事微電子、半導體、光學(xué)、納米技術(shù)等領(lǐng)域的研究所和大學(xué)。公司從事領(lǐng)域及產(chǎn)品主要包括:加速器質(zhì)譜儀:第三代14C加速器質(zhì)譜儀系統(AMS),包括全套可兼容第三代石墨化系統AGE3、氣動(dòng)壓樣裝置PSP、鐵制分配器FED、管密封裝置TSE、氣體電離探測器GID、氣體接口系統GIS、碳酸鹽處理系統CHS、同位素比質(zhì)譜儀IRMS。薄膜制備及處理:磁控濺射儀(magnetron sputtering system)、電子束蒸鍍設備(E-beam Evaporation system)、離子束濺射沉積(IBS system)、化學(xué)束外延鍍膜(CBE/GSMBE)、分子束外延設備(MBE)、離子減薄儀(Ion Milling)、超高真空多功能鍍膜設備、高精密光學(xué)鍍膜設備(Optical Coating system)、刻蝕機(RIE, RIEB)、超導約瑟夫森結制備(Josephson Junction, Qubits);金剛石制備及應用:納米晶金剛石制備設備、熱絲化學(xué)氣相沉積(HFCVD)、CVD單晶金剛石合成設備、CVD光學(xué)級金剛石窗口合成、微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)、工具級金剛石涂層制備(tool coating)、金剛石單晶/多晶摻雜(single crystal diamond and doping)、CVD金剛石單晶及其應用、高溫高壓金剛石單晶(HPHT diamond)、金剛石拋光設備(diamond polishing)、激光切割設備(laser cutting)、鉆石凈度及切工評定儀器;高能密度物理:輻射流體力學(xué)模擬、原子光譜分析軟件、多維碰撞輻射軟件、三維熱輻射CAD軟件、狀態(tài)方程和不透明度、原子物理數據庫;微波干涉儀、金剛石靶丸、超高功率輸出窗口;激光器與設計:固體激光器設計軟件(Solid-state Laser)、光纖激光器設計軟件(Fiber laser)、半導體激光器設計軟件(Semiconductor laser)、激光鏡面鍍膜設備(Lasers coating system)、高功率激光輸出窗口(High power output window)、高功率激光熱沉片(Heat Sink)、高功率鉆石激光器(Diamond Laser)、金剛石窗口鍍增透膜(AR coating service);
    質(zhì)譜儀
    LEA低能量碳十四小型加速器質(zhì)譜系統(50kV)基于現有成熟的200kVMICADAS加速器質(zhì)譜儀,IonplusAG開(kāi)發(fā)了50kVLEA低能量碳十四小型加速器質(zhì)譜儀
    LEA 50kV 低能量(14C)碳十四小型加速器質(zhì)譜系統 產(chǎn)品信息

    LEA 低能量碳十四小型加速器質(zhì)譜系統(50kV)

    基于現有成熟的200kV MICADAS加速器質(zhì)譜儀,Ionplus AG開(kāi)發(fā)了50kV LEA低能量碳十四小型加速器質(zhì)譜儀。LEA在不降低儀器性能的同時(shí)大大降低儀器的占地面積,LEA占地4.5m2高度1.5m – 約為MICADAS占地面積的一半,因此LEA是小巧的14C AMS。

        

    LEA碳十四加速器質(zhì)譜儀                                             LMP專(zhuān)用數據采集及處理軟件

    通過(guò)采用MICADAS的許多相同概念和部件,LEA具有MICADAS一樣的特點(diǎn):混合型濺射離子源可用于測量氣體和固體樣品;帶預真空進(jìn)樣裝置的隨機采樣樣品靶盤(pán),不需要破壞真空或冷卻離子源的任何部件而實(shí)現更換樣品靶盤(pán);真空絕緣串列加速器。采用低端電壓氦剝離,能夠實(shí)現高達50%的傳輸效率和的測量穩定性。

    MICADAS一樣,LEAIonplus的其他所有附屬儀器兼容,例如GIS氣體接口系統用于全自動(dòng)氣體樣品測量,LMP專(zhuān)用軟件用于數據采集和處理。Ionplus新一代ACS加速器控制軟件可以讓用戶(hù)操作LEA十分容易:從快速自動(dòng)調試和任務(wù)引擎工作流程,到新的維護和診斷任務(wù)特點(diǎn) 運行一臺加速器質(zhì)譜儀從來(lái)沒(méi)有如此簡(jiǎn)單過(guò)!

    LEA是小巧的14C AMS,占地面積?。?.6m × 1.8m;輕量化:約3000 kg;
    采用混合銫濺射負離子源用于固體和氣體樣品分析,石墨靶(1mg C)負離子流50-150 uA, 氣體樣品(≥ 10 ug)負離子流10-20 uA。
    50kV端電壓串列加速器,真空絕緣,不需要SF6或其他絕緣氣體,維護簡(jiǎn)單且成本低。采用氦剝離器,對14C傳輸效率可達50%。
    現代標準物質(zhì)樣品石墨靶14C/12C精度可達0.2%,空白樣品石墨靶本底測試 14C/12C≤2.0×10-15。
    采用永磁鐵,整臺AMS平均功率不超過(guò)2.5kW。整套儀器采用氣冷解決方案,不需要冷卻水裝置。
    正常操作時(shí)輻射量不超過(guò)0.2μSv/h
     

     

    加速器質(zhì)譜計、加速器質(zhì)譜、加速器質(zhì)譜系統、碳十四考古、AMS、14CAMS測年、粒子探測器、放射性碳測年、碳循環(huán)、碳十四示蹤、12C、13C、14C、考古、地質(zhì)、斷代工程、人工放射性核素、加速器、生物醫學(xué)、放射性活度、重離子探測器、MeV、多核素、加速器質(zhì)譜儀、固態(tài)樣品、氣態(tài)樣品、地層年代學(xué)、全新世黃土地層、考古年代、海洋、環(huán)境變遷、古地震事件年齡測定、生物標志物、石墨化系統、第四紀、科技考古、文物考古、碳14,碳十四實(shí)驗室、碳十四定年、碳十四測年、地域考古、冶金考古、陶瓷考古、環(huán)境考古、文化遺產(chǎn)保護、農業(yè)考古、生物考古、數字考古、考古年代學(xué)、文物遺產(chǎn)、文物保護、碳十四定年、Ionplus、ETH、MICADAS、200kV加速器質(zhì)譜儀、300kV加速器質(zhì)譜儀、0.2MV AMS、0.3MV AMS、200kV AMS、300kV AMS、碳達峰、碳中和、大氣CO2濃度、氣化石源CO2、化石燃料、碳排放、14C示蹤、溫室氣體

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