詳情內容 D1000臺式高光譜成像系統
臺式高光譜成像系統主要由照明光源系統（同軸、側光、背光）、電控升降臺、濾光片、高光譜成像儀、計算機及控制軟件等部分組成，該系統具有空間分辨率高、圖像清晰度高和全光譜分析的特性。 通過(guò)光源照射在放置于電控升降臺上的目標物（樣品），目標物的反射光通過(guò)高光譜成像儀捕獲，數據被計算機軟件所記錄，.終獲得一個(gè)包含了影像信息和光譜信息的三維數據立方體，通過(guò)光譜曲線(xiàn)的分析，可反演出對應每一個(gè)像素的目標物組成，可用于地面物體的分析分類(lèi)，特征目標的提取識別，在刑偵、物證鑒定、農業(yè)普查、礦物勘探、環(huán)境監測等方面具有廣泛的應用價(jià)值。
D1000臺式高光譜成像系統產(chǎn)品特點(diǎn)
●無(wú)縫掃描獲取目標高光譜三維影像
●基于LCTF全局曝光面陣成像
●可見(jiàn)光近紅外波段（400-1000nm）
●配備多規格光源及鏡頭濾光片用于熒光光譜顯現分析
●實(shí)現全波段反射/透射光譜采集以及熒光光譜采集
●各波段影像實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)觀(guān)察及單波段影像觀(guān)察采集
●提供RGB、偽彩、灰度等多種目標光譜影像顯示模式
●提供目標光譜曲線(xiàn)顯示及白平衡校準功能
●圖像處理提供反差對比增強功能
●文檢類(lèi)檢驗、指印提取、物質(zhì)區分等功能
D1000臺式高光譜成像系統技術(shù)參數
| 產(chǎn)品型號 參數 | D1000 |
| 光譜范圍 | 400nm-1000nm |
| 光譜掃描精度 | 1nm |
| 半高寬（光譜分辨率） | 10nm@500nm |
| Sensor尺寸 | ≥ 2/3” |
| 成像SENSOR光譜范圍 | 400nm-1000nm |
| 成像SENSOR像元尺寸 | 6.9μm×6.9μm |
| 成像SENSOR分辨率 | 1224×1024 |
| 成像SENSOR像素深度 | 12bits |
| 帶外抑制 | 高光譜：OD3 / 多光譜：OD6 |
| LCTF.大偏振透過(guò)率 | ≧ 32% |
| LCTF響應時(shí)間 | 10ms-200ms |
| .大幀率（Frame Rate） | 15Fps |
| 影像格式 | RAW/BMP/JPG |
| 曝光時(shí)間 | 64us - 10s |
| 曝光方式 | 全局曝光 |
| 內置光源濾光片 | 370nm/390nm/452nm/500nm/549nm |
| 內置鏡頭濾光片（長(cháng)波通） | 450nm/500nm/550nm/600nm |
| 光路種類(lèi) | 同軸/側光/背光 |
| 側光角度調整 | 軟件控制步進(jìn)電機調節 |
| 外置多波段光源 | 13檔：350-720nm/473/455/491/505/530/550/574/613/420/412/445/361 |
| 背光照明光譜范圍 | 400nm-1000nm |
| 同軸照明光譜范圍 | 400nm-1000nm |
| 側光照明光譜范圍 | 400nm-2000nm |
| 白平衡反射板 | 5“，反射率>99% |
| 鏡頭接口 | EF接口 |
| 鏡頭調焦/光圈 | 軟件控制電動(dòng)調節 |
| 升降平臺控制 | 軟件手動(dòng)控制 / 智能對焦聯(lián)動(dòng) |
| 升降平臺行程 | .大18cm |
| 升降平臺模式 | 直線(xiàn)/中速/微速上升下降 |
| 系統硬件平臺 | Intel NUC平臺：.新8代 i7 CPU，1TB固態(tài)NVME接口SSD硬盤(pán)，32GDDR4代內存 |
| 系統軟件平臺 | Windows10企業(yè)版64位 |
| 顯示系統 | 27寸4K高動(dòng)態(tài)液晶顯示器，支持雙屏輸出至投影儀或大屏幕液晶電視 |
| 工作溫度 | -20℃~55℃(溫控)，10℃~45℃(無(wú)溫控) |
| 工作濕度 | < 85% (溫控)，< 65% (無(wú)溫控) |
| 儲存溫度 | -10℃?+50℃ |
| 儲存濕度 | < 85% |
| 尺寸 | 450 mm×450 mm×600mm |
| 重量 | < 20 kg |
| 供電及功耗 | 4.7VDC?17VDC < 15W （不含光源） |
D1000臺式高光譜成像系統適用領(lǐng)域
● 刑偵
● 物證鑒定
● 防爆
● 精準農林
●水質(zhì)監測
● 采礦勘探
● 遙感遙測
● 工業(yè)檢測
● 文物鑒定
● 醫學(xué)醫療
