臺階儀接觸式表面形貌測量?jì)x器是一種常用的膜厚測量?jì)x器，它是利用光學(xué)干涉原理，通過(guò)測量膜層表面的臺階高度來(lái)計算出膜層的厚度，具有測量精度高、測量速度快、適用范圍廣等優(yōu)點(diǎn)。它可以測量各種材料的膜層厚度，包括金屬、陶瓷、塑料等。
針對測量ITO導電薄膜的應用場(chǎng)景，NS200臺階儀接觸式表面形貌測量?jì)x器提供如下便捷功能：
1）結合了360°旋轉臺的全電動(dòng)載物臺，能夠快速定位到測量標志位；
2）對于批量樣件，提供自定義多區域測量功能，實(shí)現一鍵多點(diǎn)位測量；
3）提供SPC統計分析功能，直觀(guān)分析測量數值變化趨勢；
NS系列臺階儀應用場(chǎng)景適應性強，其對被測樣品的反射率特性、材料種類(lèi)及硬度等均無(wú)特殊要求，能夠廣泛應用于半導體、太陽(yáng)能光伏、光學(xué)加工、LED、MEMS器件、微納材料制備等各行業(yè)領(lǐng)域內的工業(yè)企業(yè)與高校院所等科研單位，其對表面微觀(guān)形貌參數的準確表征，對于相關(guān)材料的評定、性能的分析與加工工藝的改善具有重要意義。
產(chǎn)品功能
1.參數測量功能
1）臺階高度：能夠測量納米到330μm甚至1000μm的臺階高度，可以準確測量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料；
2）粗糙度與波紋度：能夠測量樣品的粗糙度和波紋度，分析軟件通過(guò)計算掃描出的微觀(guān)輪廓曲線(xiàn)，可獲取粗糙度與波紋度相關(guān)的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余項參數；
3）翹曲與形狀：能夠測量樣品表面的2D形狀或翹曲，如在半導體晶圓制造過(guò)程中，因多層沉積層結構中層間不匹配所產(chǎn)生的翹曲或形狀變化，或者類(lèi)似透鏡在內的結構高度和曲率半徑。
2.數采與分析系統
1）自定義測量模式：支持用戶(hù)以自定義輸入坐標位置或相對位移量的方式來(lái)設定掃描路徑的測量模式；
2）導航圖智能測量模式：支持用戶(hù)結合導航圖、標定數據、即時(shí)圖像以智能化生成移動(dòng)命令方式來(lái)實(shí)現掃描的測量模式。
3）SPC統計分析：支持對不同種類(lèi)被測件進(jìn)行多種指標參數的分析，針對批量樣品的測量數據提供SPC圖表以統計數據的變化趨勢。
3.光學(xué)導航功能
配備了500W像素的彩色相機，可實(shí)時(shí)將探針掃描軌跡的形貌圖像傳輸到軟件中顯示，進(jìn)行即時(shí)的高精度定位測量。
4.樣品空間姿態(tài)調節功能
配備了精密XY位移臺、360°電動(dòng)旋轉平臺和電動(dòng)升降Z軸，可對樣品的XYZ、角度等空間姿態(tài)進(jìn)行調節，提高測量精度及效率。
性能特點(diǎn)
1.亞埃級位移傳感器
具有亞埃級分辨率，結合單拱龍門(mén)式設計降低環(huán)境噪聲干擾，確保儀器具有良好的測量精度及重復性；
2.超微力恒力傳感器
1-50mg可調，以適應硬質(zhì)或軟質(zhì)樣品表面，采用超低慣量設計和微小電磁力控制，實(shí)現無(wú)接觸損傷的接觸式測量；
3.超平掃描平臺
系統配有超高直線(xiàn)度導軌，杜絕運動(dòng)中的細微抖動(dòng)，真實(shí)地還原掃描軌跡的輪廓起伏和樣件微觀(guān)形貌。
典型應用
部分技術(shù)參數
| 型號 | NS200 |
| 測量技術(shù) | 探針式表面輪廓測量技術(shù) |
| 探針傳感器 | 超低慣量，LVDC傳感器 |
| 平臺移動(dòng)范圍X/Y | 電動(dòng)X(jué)/Y(150mm*150mm)(可手動(dòng)校平) |
| 樣品R-θ載物臺 | 電動(dòng)，360°連續旋轉 |
| 單次掃描長(cháng)度 | 55mm |
| 樣品厚度 | 50mm |
| 載物臺晶圓尺寸 | 150mm（6吋）,200mm（8吋） |
| 尺寸（L×W×H）mm | 640*626*534 |
| 重量 | 40kg |
| 儀器電源 | 100-240 VAC，50/60 Hz，200W |
使用環(huán)境
相對濕度：濕度 （無(wú)凝結）30-40% RH
溫度：16-25℃ (每小時(shí)溫度變化小于2℃)
地面振動(dòng)：6.35μm/s（1-100Hz）
音頻噪音：≤80dB
空氣層流：≤0.508 m/s（向下流動(dòng)）
如有疑問(wèn)或需要更多詳細信息，請隨時(shí)聯(lián)系中圖儀器咨詢(xún)。
