核心參數
儀器種類(lèi)進(jìn)口輝光放電光譜儀
產(chǎn)品介紹
儀器簡(jiǎn)介：
GDS850輝光放電光譜儀
輝光放電光譜法采用低壓，冷激發(fā)光源，材料被氬離子流均勻地從樣品表面剝離濺射。 被濺射出的材料原子在遠離樣品表面低氬的等離子體內被激發(fā)。 GDS850的配備提高了實(shí)驗室的質(zhì)量控制和研發(fā)能力，它提供了非常準確的基體分析以及成分深度剖析涂層分析和表面處理的結果。 儀器檢測光譜范圍從120到800納米，最多配置58個(gè)通道。
特征
濺射與激發(fā)分離
寬動(dòng)態(tài)范圍的線(xiàn)性校準曲線(xiàn)
更小自吸收和材料再沉積
原子線(xiàn)激發(fā)
少和窄的發(fā)射線(xiàn)減少干擾
無(wú)冶金記憶效應
較少的校準標樣
低氬氣消耗
兩次分析間的自動(dòng)清掃
均勻的濺射
其他方法可能只是激發(fā)樣品表面，所采集的數據并不一定具有代表性。而輝光放電，樣品材料均勻地從表面激發(fā)濺射， 冷光源的激發(fā)為一些困難樣品的檢測提供了很好的技術(shù)。
以下為對一個(gè)硬盤(pán)表面100nm深度每種元素3次分析的結果，可以看到每種元素隨深度的分布。
可選件
射頻光源
統計軟件包
光源套件
樣品夾持器
SMARTLINE遠程診斷軟件求
耗材
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