CX-9800(T)全譜直讀光譜分析儀 返回列表頁(yè)

優(yōu)勢：

主要特點(diǎn)：

1、可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍，可根據客戶(hù)需要選擇通道元素；

2、分析速度快捷，20秒內測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過(guò)設置預燃時(shí)間及標線(xiàn)，使儀器用短的時(shí)間達到優(yōu)的分析效果；

3、光學(xué)系統采用真空恒溫光室， 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導入真空光室，實(shí)現光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結果準確，重現性及長(cháng)期穩定性；

4、特殊的光室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；

5、自動(dòng)光路校準，光學(xué)系統自動(dòng)進(jìn)行譜線(xiàn)掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動(dòng)識別特定譜線(xiàn)，與原存儲線(xiàn)進(jìn)行對比，確定漂移位置，找出分析線(xiàn)當前的像素位置進(jìn)行測定；

6、開(kāi)放式的電極架設計，可以調整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；

7、工作曲線(xiàn)采用國際標樣，預做工作曲線(xiàn)，可根據需要延伸及擴展范圍，每條曲線(xiàn)由多達幾十塊標樣激發(fā)生成，自動(dòng)扣除干擾；

8、HEPS數字化固態(tài)光源，適應各種不同材料 ；

9、固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長(cháng)期運行穩定性；

10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；

11、合理的氬氣氣路設計，使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短，為用戶(hù)節省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；

12、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長(cháng)，并設計了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易；

13、高性能DSP及ARM處理器，具有超高速數據采集及控制功能并自動(dòng)實(shí)時(shí)監測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊 的運行狀況；

14、儀器與計算機之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無(wú)關(guān)，使儀器具有更好的適用性；

15、核心器件全部，保證了儀器優(yōu)秀的品質(zhì)。

技術(shù)指標

光學(xué)系統

光學(xué)結構：帕邢-龍格結構的全譜真空型光學(xué)系統

光室溫度：自動(dòng)控制恒溫：35℃±0.5℃

波長(cháng)范圍：160-800nm

光柵焦距：350 mm

光柵刻線(xiàn)：3600 l/mm

一級光譜線(xiàn)色散率：1.2 nm/mm

探測器：多塊高性能線(xiàn)陣CCD

平均分辨率：10pm/pixel

激發(fā)臺

氣體：沖氬式

氬氣流量：激發(fā)時(shí)3-5L/min， 待機時(shí):無(wú)須待機流量

電極：鎢材噴射電極技術(shù)

吹掃：點(diǎn)擊自吹掃功能

補償：熱變形自補償設計

分析間隙：樣品臺分析間隙：4mm

激發(fā)光源

類(lèi)型：HEPS數字化固態(tài)光源

頻率：100-1000Hz

放電電流：1-80A

特殊技術(shù)：放電參數優(yōu)化設計

預燃：高能預燃技術(shù)

數據采集系統

處理器：ARM處理器，高速數據同步采集處理

接口：基于DM9000A的以太數據傳輸

電源與環(huán)境要求

輸入：220VAC 50Hz

功率：分析時(shí)700W，待機狀態(tài)40W

工作溫度：10-30℃（該溫度范圍內溫度變化不大于5℃/h）

工作濕度：20-80%

尺寸與重量

尺寸：800*450*500 mm

重量：85Kg

地址：太原市南中環(huán)200號