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    DWS RheoLab HT高溫型擴散波譜儀

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    DWS RheoLab HT高溫型擴散波譜儀專(zhuān)為那些高溫領(lǐng)域的流變工作者而設計,該儀器測試溫度上限可達180℃。

    詳細介紹

    本款產(chǎn)品專(zhuān)為有高溫微流變表征的用戶(hù)設計,溫度上限可達180℃。有研究人員利用傳統技術(shù)測試高溫流變時(shí)需要利用時(shí)-溫疊加的方法間接推算,而本產(chǎn)品允許用戶(hù)利用基于動(dòng)態(tài)光散射原理的擴散波譜技術(shù)直接在不高于180℃的條件下直接測試樣品的微流變性能。
    儀器相關(guān)配置參數如下:
    ※ 背散射和前散射兩種模式,提供完整的DWS解決方案,通過(guò)電子快門(mén)系統實(shí)現兩種模式轉換;
    ※ 軟件功能強大,用以數據采集和分析,結合單多斑測量,用戶(hù)可自定義多腳本運行,進(jìn)行在線(xiàn)微流變分析,可以得到粘彈模量、均方位移、平均光子自由程、蠕變柔量、損耗角正切和平均粒徑;
    ※ 自動(dòng)測量得到平均光子自由程l*和吸收長(cháng)度la。
    ※ 半導體激光光源,685nm,40mW,噪音小于0.5%,單模TEM00,相干長(cháng)度>1m,預熱時(shí)間15分鐘,激光路徑處于密閉空間,安全等級為1級(根據EN 60825-1/11.01標準);
    ※ 兩個(gè)高檢測效率的單光子計數檢測器,量子效率>65% @ 685nm,標準死時(shí)間20ns;
    ※ 雙通道快速多tau/線(xiàn)性相關(guān)器,最小采樣時(shí)間12.5ns;
    ※ 測試溫度范圍(4℃ - 180℃),在實(shí)驗室溫度不高于23℃時(shí)溫控精度+/-0.02℃,露點(diǎn)以下測量時(shí)需接干燥空氣吹掃,RheoLab提供接口;
    ※ 儲存模量G'和損耗模量G"測量范圍1Hz-10MHz,彈性范圍:1Pa-50kPa;
    ※ 可測試1mPas以上的低粘度樣品;
    ※ 樣品池支架光程范圍1-10mm,可使用標準的光學(xué)池,使用1mm樣品池時(shí)樣品需求量降至150μL;
    ※ 儀器無(wú)需光學(xué)平臺,操作保養更加簡(jiǎn)捷。


    產(chǎn)品功能:
    DWS RheoLab HT高溫型擴散波譜儀采用了背散射和前散射技術(shù),能夠在高溫條件下分析軟物質(zhì)的微流變以及超濃懸浮液的平均粒徑。
    包括背散射和前向散射完整的DWS方法,采用雙池回波技術(shù)
    (EP 1720000 A1)的,用于非遍歷性樣品表征;利用回波技術(shù),幾分鐘內得到儲存模量G'和損耗模量G",頻率上限可達10M Hz ;適用于>1%的樣品濃度(和粒徑有關(guān)),透明樣品需加入示蹤粒子;可以測量穩定性,老化性以及凝膠點(diǎn)等。

    使用背散射技術(shù)測量平均粒徑,測量范圍:50nm-1μm;適用于顆粒濃度20%以下的牛頓流體體系,能獲得多分散性樣品的平均粒徑。

    相關(guān)耗材:
    1mm、2mm、5mm、10mm四種規格的樣品瓶;PS示蹤粒子;二氧化硅示蹤粒子。(需訂貨)

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