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    暗場(chǎng)高光譜顯微成像系統

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    暗場(chǎng)高光譜顯微成像系統

    詳細介紹

    IMA™高光譜顯微成像系統,400~1620nm,光學(xué)分辨率<2nm


    加拿大Photon ect生產(chǎn)的 IMA™高光譜成像顯微鏡可提供400 nm~1620 nm范圍內的光譜和空間信息, 光學(xué)分辨率<2nm,這種高光譜顯微鏡搭配高效率的分析系統,可快速繪制光致發(fā)光、電致發(fā)光、熒光等圖像,顯示反射率和透射率等參數,是一種高效率的400~1620nm熒光高光譜成像系統暗場(chǎng)高光譜顯微成像系統。

    IMA™高光譜顯微成像系統可以用于多路復用系統,如下圖所示,透明玻璃上的碳納米管顯示出17種假色圖樣,分別對應17種不同的波長(cháng)。

    IMA納米高光譜顯微成像系統可以不均勻材質(zhì)的缺陷識別。左下圖代表了鈣鈦礦分子用C60作為電子傳輸層,C60電致發(fā)光分裂衍生的準費米能級的映射;右下圖代表了當前傳輸效率的映射。

    Photon ect高光譜暗場(chǎng)顯微鏡可進(jìn)行樣品生長(cháng)和降解的研究。例如下圖表示鈣鈦礦晶體的光致發(fā)光中心波長(cháng)在770nm的黑白和假色圖,以及分別對應的高光譜數據。

    IMA高光譜成像儀可用于細胞標記。如下A圖代表60nm的金納米顆粒標記的人類(lèi)乳腺癌細胞的暗場(chǎng)圖像,B圖代表60nm的金納米顆粒標記的人類(lèi)乳腺癌細胞在550nm處的圖像,C圖代表乳腺癌細胞的圖像,D圖代表金納米顆粒在不同區域的光譜。


    加拿大Photon ectIMA高光譜暗場(chǎng)顯微鏡規格:

    VIS-SWIR型號 400~1620nm

     

    光學(xué)規格

    VIS 400~1000nm

    SWIR 900~1620nm

     

    光學(xué)分辨率(FWHM

    < 2 nm

    < 4 nm

     

    光譜通道

    連續可調

     

    空間分辨率

    亞微米(受顯微鏡物鏡限制)

     

    相機

    CCD,EMCCD,sCMOS

    Photon ec公司的InGaAs相機

    ZephIR1.7Alize1.7

     

    激發(fā)波長(cháng)(高達3個(gè))

    405,447,532,561,660,730,785,808nm(其他波長(cháng)可定制)

     

    顯微鏡特點(diǎn)

    科研級別的產(chǎn)品,可正放或倒放

     

    波長(cháng)分辨率精度

    FWHM/8

     

    掃描速度

    單波長(cháng)150 ms

     

    XY方向的行程

    76mm×52mm(搭配手動(dòng)臺)

     

    Z軸分辨率

    100nm

     

    白光照明

    透射、反射,汞、鹵素

     

    照明選項

    熒光模式,暗場(chǎng)模式(有性或干性)

     

    視頻模式

    百萬(wàn)像素攝像頭,且樣品可視化

     

    數據處理

    空間濾波,數據統計,光譜提取,數據歸一化,

    光譜標定,光譜疊加,中心位置圖

     

    高光譜數據格式

    HDF5,FITS

     

    軟件配置

    電腦(Windows 10-64 bits,PHySpec™控制分析軟件(含電腦)

     

    尺寸

    150cm×85cm×82cm

     

    重量

    80kg

     

    電源配置

    120VAC/12A/60Hz、230VAC/12A/50Hz

     

    附件及可選項

    物鏡放大率

    10×,20×,40×,50×,60×,100×

    光譜范圍延伸

    例如UV選項中FWHM=10nm

    電動(dòng)臺

    行程100mm×100mm,分辨率22nm

    濾光輪

    6個(gè)帶通濾波器

    電致發(fā)光模塊

    第二個(gè)相機接口

    光度校準

    高分辨率模塊:900nm~1620nmFWHM<1 nm

    光學(xué)臺建議搭配氣升式防震臺;

    900mm×1800mm×60mm36''×72''×2.4'')或

    900mm×900mm×60mm36''×36''×2.4'')光學(xué)臺緊挨著(zhù)標準的900mm×900mm×60mm36''×36''×2.4'')光學(xué)臺


    Photon ectIMA高光譜顯微成像系統特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn):

    -圍包含可見(jiàn)光、近紅外、短波長(cháng)紅外范圍(400~1620nm

    -快速繪制光致發(fā)光、電致發(fā)光、熒光成像圖像,顯示反射率、透過(guò)率參數

    -系統更高效


    IMA高光譜成像顯微鏡應用:

    -生物化學(xué)和納米傳感器(單壁碳納米管的多路復用或近紅外染料或熒光)

    -金納米粒子暗場(chǎng)成像

    -鈣鈦礦(CIS)、銅銦鎵硒(CIGS)、硅(Si)、碳化硅(SiC)等光譜和空間分析

    -同側光譜分析

    - GaAs準費米能級映射


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