詳細摘要： HMDS高溫真空干燥箱特點(diǎn)：高溫真空干燥箱在半導體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個(gè)工藝環(huán)節，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要
產(chǎn)品型號：所在地：上海市更新時(shí)間：2024-12-18 在線(xiàn)留言上海環(huán)競試驗設備廠(chǎng)
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上海環(huán)競試驗設備廠(chǎng)
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詳細摘要： HMDS高溫真空干燥箱特點(diǎn)：高溫真空干燥箱在半導體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個(gè)工藝環(huán)節，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要
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