一.鈣鈦礦發(fā)光二極管自動(dòng)涂膜機產(chǎn)品介紹：
本儀器由精心研制高精度精密型涂布試驗機，本機主要應用于蓋板玻璃的各種涂膠作業(yè)而開(kāi)發(fā)設計的專(zhuān)用裝置，同時(shí)也可以用于其他類(lèi)似材料的涂布。本涂布試驗機，底板采用微孔陶瓷吸附平臺，同時(shí)采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過(guò)進(jìn)料壓力，狹縫寬度調節，以及狹縫頭與底板間隙三個(gè)因數控制濕膜厚度，同時(shí)軟件系統增加了高度調節與反饋系統，大大提高了涂布精度與均勻性。
應用場(chǎng)景：針對微米級特別是納米及亞微米級功能性涂層的涂布試驗、墨水調試、工藝研究、小規模制樣研發(fā)等。
涉及行業(yè)：包括水凝膠、液態(tài)金屬、智能包裝材料、光電材料、光刻膠、功能涂層、微電子及半導體封裝等大面積涂布制備，以及氫燃料電池膜電極、電解水制氫膜電極、鋰電池、各種活性催化劑、異質(zhì)結太陽(yáng)能電池、薄膜太陽(yáng)能電池、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池、有機太陽(yáng)能電池、OLED柔性穿戴器件、有機場(chǎng)效應晶體管,導電聚合物,納米線(xiàn)和納米管,二維材料,有機發(fā)光二極管和鈣鈦礦發(fā)光二極管、鈣鈦礦光伏電池、鋰離子電池的電解質(zhì)和電極、染色敏感性太陽(yáng)能電池、電子皮膚等器件的制備。
由于常規實(shí)驗室涂布試驗機，受到刮刀調節，底板平整度等的影響很難達到涂布納米級膜，狹縫式涂布試驗機，底板采用檢驗級大理石平臺，同時(shí)采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過(guò)進(jìn)料壓力，狹縫寬度調節，以及狹縫頭與底板間隙三個(gè)因數控制濕膜厚度，同時(shí)軟件系統增加了高度調節與反饋系統，大大提高了涂布精度與均勻性。在國內光學(xué)膜涂布實(shí)驗室研發(fā)打樣階段得到了廣泛的應用。
二.鈣鈦礦發(fā)光二極管自動(dòng)涂膜機技術(shù)參數：
1.狹縫擠出頭材質(zhì)：不銹鋼
2.狹縫擠出頭涂布寬度：10-50mm
3.狹縫擠出墊片厚度:100 μm
3.狹縫擠出墊片套裝:5 個(gè) 50毫米寬墊片或5 個(gè) 25毫米寬的墊片
4.電熱板溫度:120°C
5.行程長(cháng)度:10-100mm
6.平臺速度:100 μm.s-1
7.平臺速度:50 mm s - 1
8.注射器速度:12 μm.s-1
9.注射速度:5 mm.s-1
10.涂布頭與基片之間活動(dòng)距離:13 mm
11.管道和接頭材質(zhì):聚四氟乙烯管，高密度PP魯爾接口鎖定連接器、不銹鋼魯爾接口連接器至螺紋連接件
12.電源參數：100 - 240 V 50Hz
13.尺寸規格:380 mm x 330mm x 220mm
14.重量：30kg
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