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    PlasmaQuant MS Elite 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀

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    產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    2015年, 德國耶拿公司推出了新品PlasmaQuant MS Elite——超高靈敏度的電感耦合等離子體質(zhì)譜儀 (ICP‐MS)。全新改進(jìn)的第二代,操作簡(jiǎn)便的碰撞反應技術(shù) (CRI II), 為消除干擾提供了一個(gè)簡(jiǎn)單、可靠、高效和免維護的解決方案, 無(wú)論是使用氦氣或氫氣模式, 均可顯著(zhù)改善那些受到質(zhì)譜干擾的元素檢出限, 更準確的測定樣品中痕量元素的含量。

    詳細介紹

      2015年, 德國耶拿公司推出了新品PlasmaQuant MS Elite——超高靈敏度的電感耦合等離子體質(zhì)譜儀 (ICP‐MS)。其的靈敏度是目前市場(chǎng)上所有四級桿ICP‐MS儀器中的, 甚至超越了昂貴的扇形磁質(zhì)譜儀的靈敏度。全新改進(jìn)的第二代,操作簡(jiǎn)便的碰撞反應技術(shù) (CRI II), 為消除干擾提供了一個(gè)簡(jiǎn)單、可靠、高效和免維護的解決方案, 無(wú)論是使用氦氣或氫氣模式, 均可顯著(zhù)改善那些受到質(zhì)譜干擾的元素檢出限, 更準確的測定樣品中痕量元素的含量。PlasmaQuant MS/Elite ICP‐MS具有業(yè)界、操作簡(jiǎn)易的優(yōu)異性能, 代表了下一代ICP‐MS的技術(shù)創(chuàng )新和儀器性能。

      產(chǎn)品優(yōu)勢

      和易操作的ICP‐MS

      的靈敏度、的背景噪音、優(yōu)異的豐度靈敏度和高速掃描, 為檢測樣品中痕量元素的含量以及進(jìn)行同位素比值測定提供了更精確和更準確的結果。

      氧化物比率

      使用軟件控制珀爾帖 (Peltier) – 冷卻的霧化室, 配以的交叉電感耦合線(xiàn)圈, 即使面對最復雜的樣品, 也可以減少氧化物的形成, 降低基體效應, 并使離子能量的擴散降至, 為樣品的分析與測定提供了的儀器靈敏度和穩定性, 確保了分析結果的準確性。

      穩定而強勁的高效率等離子系統

      擁有一個(gè)精確的27.12MHz 高頻和高效率的固態(tài)晶體控制射頻系統, 以確保輸出頻率的穩定性??焖偕漕l匹配網(wǎng)絡(luò ), 確保了強勁而穩定的離子體性能, 即使將待測樣品從水相換成有機相, 也能確保及維持等離子體高頻率的穩定性。

      快速簡(jiǎn)捷與高效的無(wú)干擾分析

      采用改進(jìn)的第二代碰撞反應技術(shù) (CRI II) – 一種創(chuàng )新而高效的干擾消除法, 干擾離子在進(jìn)入離子光學(xué)系統前便被有效地消除了– 操作簡(jiǎn)單、可靠, 無(wú)需任何附加的維護, 即可在時(shí)間對任何復雜的樣品進(jìn)行分析與測定, 并獲得準確的結果。

      靈活可調的靈敏度

      設計的90度離子偏轉透鏡系統, 使離子束發(fā)生90度偏轉, 有效地消除光子和中性粒子的干擾, 且以的傳輸效率將所有待測離子集中輸送到質(zhì)量分析儀, 為質(zhì)譜儀的分析提供了的信噪比和極低的檢測限。

      雙偏轉和低噪聲四極桿質(zhì)譜儀系統

      提供了超乎想象的更低的檢出限:把離子透鏡系統和彎曲的四極桿預桿這兩項技術(shù)巧妙地結合在一起, 更有效地將背景噪音降低到了極限, 為痕量元素分析提供了超乎想象的更低檢出限。

      研究級的四極桿

      四極桿的RF射頻驅動(dòng)器采用了精確的3.0MHz工作頻率, 以提高四極桿質(zhì)荷比的分辨性能, 并確保了離子損失降至。設計的離子采樣和聚焦系統, 及高頻四極桿提供了的質(zhì)譜峰的分辨率和精確度, 獲得了優(yōu)異的豐度靈敏度, 提高了質(zhì)譜儀的分辨能力和長(cháng)期穩定性。

      全數字化寬范圍離子檢測系統

      具有最長(cháng)的檢測器壽命 (典型的壽命在 5年以上), 無(wú)需數模交叉校準, 就可以獲得超過(guò)九個(gè)數量級的動(dòng)態(tài)線(xiàn)性范圍。無(wú)論待測樣品是固體還是液體, 都可獲得準確的同位素比值結果, 即使是在低濃度或高同位素比值的情況下也不例外。

      標準與法規的支持

      新的 Quantum ICP‐MS 和 compassCDS 軟件支持 21CFR Part11標準,以滿(mǎn)足相關(guān)醫藥行業(yè)客戶(hù)的需求。

      外部設備的控制

      雙向觸發(fā)器可滿(mǎn)足用戶(hù)對于激光燒蝕或色譜設備聯(lián)用的需求。

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