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    氬氣純化設備

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    處理氣量:(1-200)Nm3/h壓力:≤1.0Mpa氬氣純度:≥99.999%露點(diǎn):≤-70℃含氧量:≤1.5ppm含氫量:≤0.5ppm含氮量:≤4ppmΣCH≤1ppm廣泛應用于:熔硅單晶爐配套使用,激光器、濺射、半導體生產(chǎn),氣相色譜儀、特殊燈泡稀有金屬加工等需要用高純氬氣的有關(guān)科研和生產(chǎn)部門(mén)

    詳細介紹

    處理氣量:(1-200)Nm3/h
    壓力:≤1.0Mpa
    氬氣純度:≥99.999%
    露點(diǎn):≤-70℃
    含氧量:≤1.5ppm
    含氫量:≤0.5ppm
    含氮量:≤4ppm
    ΣCH≤1ppm
    廣泛應用于:
    熔硅單晶爐配套使用,激光器、濺射、半導體生產(chǎn),氣相色譜儀、特殊燈泡稀有金屬加工等需要用高純氬氣的有關(guān)科研和生產(chǎn)部門(mén)。

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