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    真空等離子清洗機2

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    產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    真空等離子清洗機,它是利用能量轉換技術(shù),在一定真空負壓的狀態(tài)下,以電能將氣體轉化為活性的氣體等離子體,氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面,引起分子結構的改變,從而達到對樣品表面有機污染物進(jìn)行超清洗,在極短時(shí)間內有機污染物就被外接真空泵抽走,其清洗能力可以達到分子級。在一定條件下還能使樣品表面特性發(fā)生改變。因采用氣體作為清洗處理的介質(zhì),所以能有效避免樣品的再次污染。等離子清洗機既能加強樣品的粘附性、相容性和浸潤性,也能對樣品進(jìn)行消毒和殺菌。等離子清洗機現已廣泛應用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、高分子、生物醫學(xué)、微觀(guān)流體學(xué)等領(lǐng)域。

    詳細介紹

    真空等離子清洗機,它是利用能量轉換技術(shù),在一定真空負壓的狀態(tài)下,以電能將氣體轉化為活性的氣體等離子體,氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面,引起分子結構的改變,從而達到對樣品表面有機污染物進(jìn)行超清洗,在極短時(shí)間內有機污染物就被外接真空泵抽走,其清洗能力可以達到分子級。在一定條件下還能使樣品表面特性發(fā)生改變。因采用氣體作為清洗處理的介質(zhì),所以能有效避免樣品的再次污染。等離子清洗機既能加強樣品的粘附性、相容性和浸潤性,也能對樣品進(jìn)行消毒和殺菌。等離子清洗機現已廣泛應用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、高分子、生物醫學(xué)、微觀(guān)流體學(xué)等領(lǐng)域。

     

    功能:

    對金屬、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有機污染物 (如石蠟、油污、脫膜劑、蛋白等)進(jìn)行超清洗。

    改變某些材料表面的性能。

    使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化,加強這些材料的粘附性、相容性和浸潤性。

    清除金屬材料表面的氧化層。

    對被清洗物進(jìn)行消毒、殺菌。

     

    優(yōu)點(diǎn):

    具有性能穩定、性?xún)r(jià)比高、操作簡(jiǎn)便、使用成本極低、易于維護的特點(diǎn)。 

    對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進(jìn)行超清洗和改性。 

    地清除樣品表面的有機污染物。

    定時(shí)處理、快速處理、清洗效率高。 

    綠色環(huán)保、不使用化學(xué)溶劑、對樣品和環(huán)境無(wú)二次污染。

    在常溫條件下進(jìn)行超清洗,對樣品非破壞性處理。

     

    應用領(lǐng)域:

    光學(xué)器件、電子元件、半導體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。

    清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。

    移除光學(xué)元件、半導體元件等表面的光阻物質(zhì),去除金屬材料表面的氧化物。

    清洗半導體元件、印刷線(xiàn)路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。

    清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。

    高分子材料表面的修飾。

    封裝領(lǐng)域中的清洗和改性,增強其粘附性,適用于直接封裝及粘和。

    改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。

    涂覆鍍膜領(lǐng)域中對玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性,使其活化,增強表面粘附性、浸潤性、相容性,顯著(zhù)提高涂覆鍍膜質(zhì)量。

    牙科領(lǐng)域中對鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預處理,增強其浸潤性和相容性。

     

    技術(shù)參數:

    雙路氣體輸入,不銹鋼艙體:Φ100mm×270mm

    容量:2升

    供電電源:AC220V

    工作電流:整機工作電流不大于1.2A(不含真空泵)

    射頻電源功率:0-300W

    射頻頻率:40KHz (偏移量小于0.2KHz)

    頻率偏移量:小于0.2KHz

    特性阻抗:50歐姆,自動(dòng)匹配

    真空度: 10Pa—1000Pa

    氣體流量:10—160ml/min(可調)

    過(guò)程控制:MCU自動(dòng)與手動(dòng)方式

    清洗時(shí)間:1-9999S可調

    功率大小 10%-99%可調

    外形尺寸:400x450x250

    重量:36.5Kg

    真空泵:2XZ-2

    真空室溫度:小于65°C

    冷卻方式:強制風(fēng)冷

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