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    美國蝕刻和剝離系統 CESx124

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    產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    這款蝕刻和清潔系統專(zhuān)為滿(mǎn)足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。

    詳細介紹

    這款蝕刻和清潔系統專(zhuān)為滿(mǎn)足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。這款高效的蝕刻和清潔系統CESx124、126、128或133是理想選擇，可滿(mǎn)足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底，不論是從小直徑還是非常大直徑。CESx可以配置多種工藝分配選項，Megasonic噴嘴對DI H20或化學(xué)藥品的處理分配選項；用于化學(xué)制劑的低壓噴嘴；化學(xué)加熱器和DI-H20；用于表面攪拌以加快反應的刷子，和/或DI H20等。


    特點(diǎn)：

    ? 專(zhuān)為重要控制和安全而設計的系統。

    ? 多達9x9英寸/ 300mm直徑的基板兼容性。

    ? 主軸組件具有直流無(wú)刷伺服電機，可實(shí)現精確的速度控制和分度。

    ? 特氟龍涂層不銹鋼臂可調節臂速度和行進(jìn)位置。

    ? 徑向排氣腔，用于層流，蓋子頂部有N2進(jìn)料。

    ? DI-H20加熱器，用于清潔和干燥輔助。

    ? 過(guò)程中包含化學(xué)相容性材料PVDF或可選的PTFE。

    ? 獨立式聚丙烯柜。

    ? 微處理器控制功能可以在存儲器中保留三十（30）步的配方，每個(gè)配方有三十（30）步。配方和步驟的數量均可根據要求擴展。

    ? 內置安全聯(lián)鎖和雙重控制。

    ? 用聯(lián)鎖裝置沖洗整個(gè)工藝區域和基材的pH值，以禁止進(jìn)入工藝區域并控制排放和主軸轉速直到安全。

    ? 按鈕蓋打開(kāi)/關(guān)閉。

    ? 觸摸屏圖形用戶(hù)界面（GUI），易于編程和安全鎖定，并帶有屏幕錯誤報告。

    ? 用于化學(xué)和房屋排水的排水分流閥。

    ? 設計符合SEMI S2 / S8準則。


    技術(shù)參數：

    ? 產(chǎn)品：蝕刻和剝離系統

    ? 型號：CESx124

    ? 可用機械臂：4

    ? 基板尺寸：13英寸直徑

    ? 主軸速度：2500

    ? 配方：高達30

    ? 分配管路：12


    主營(yíng)產(chǎn)品：

    Laurell勻膠機

    Harrick等離子清洗機

    Thetametrisis膜厚儀

    Microxact探針臺

    ALD原子層沉積系統

    TRION反應離子刻蝕機

    Uvitron紫外固化箱

    NXQ紫外曝光光刻機

    Novascan紫外臭氧清洗機

    Nilt納米壓印機

    Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

    Annealsys高溫退火爐

    Kinematic程序剪切儀

    Laurell EDC系統，濕站系統

    Wabash/Carver自動(dòng)壓片機



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