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美國那諾-馬斯特 NRE-3500 (A) 全自動(dòng)RIE反應離子刻蝕機

詳細摘要： RIE反應離子刻蝕機NRE-3500（A）全自動(dòng)RIE反應離子刻蝕機概述：獨立式RIE反應離子刻蝕系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及1...
產(chǎn)品型號：所在地：深圳市更新時(shí)間：2024-02-19 在線(xiàn)留言
美國蝕刻和剝離系統 CESx124

詳細摘要：這款蝕刻和清潔系統專(zhuān)為滿(mǎn)足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。
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德國分子束外延 Laser MBE

詳細摘要： Laser MBELaser MBE特點(diǎn)模塊化概念，Laser MBE可以輕松升級到傳輸模塊或其他模塊UHV PLD主腔室、利用Load-lock實(shí)現襯底和靶材...
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實(shí)驗室專(zhuān)用原子層沉積設備 Savannah100,200,300

詳細摘要：用于沉積納米級薄膜、納米粉末包覆、長(cháng)深孔樣品鍍膜;具有Thermal-ALD、PEALD、Particle-ALD和生產(chǎn)型ALD;具備近100種膜層工藝。應用領(lǐng)...
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