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    美國 那諾-馬斯特 NRE-3500 (A) 全自動(dòng)RIE反應離子刻蝕機

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    RIE反應離子刻蝕機NRE-3500（A）全自動(dòng)RIE反應離子刻蝕機概述：獨立式RIE反應離子刻蝕系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統可以支持到12的晶圓片。

    詳細介紹

    RIE反應離子刻蝕機

    NRE-3500（A）全自動(dòng)RIE反應離子刻蝕機概述：獨立式RIE反應離子刻蝕系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2"的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統可以支持到12"的晶圓片。腔體為超凈設計，并且根據配套的真空泵可以達到10-6 Torr 或更小的極限真空。該系統系統可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。真空泵組包含一個(gè)節流閥,一個(gè)250l/s的渦輪分子泵,濾網(wǎng)過(guò)濾器,以及一個(gè)10cfm的機械泵(帶Formblin泵油).RF射頻功率通過(guò)600W,13.56MHz的電源和自動(dòng)調諧器提供。系統將持續監控直流自偏壓,該自偏壓可以高達-500V.這對于各向異性的刻蝕至關(guān)重要。

    NRE-3500（A）全自動(dòng)RIE反應離子刻蝕機是基于PC控制的全自動(dòng)系統.系統真空壓力及DC直流偏壓將以圖形格式實(shí)時(shí)顯示,流量及功率則以數字形式實(shí)時(shí)顯示.系統提供密碼保護的四級訪(fǎng)問(wèn)功能:操作員級、工程師級、工藝人員級,以及維護人員級.允許半自動(dòng)模式(工程師模式)、寫(xiě)程序模式(工藝模式), 和全自動(dòng)執行程序模式(操作模式)運行系統?；谌詣?dòng)的控制，該系統具有高度的可重復性。

    NRE-3500（A）全自動(dòng)RIE反應離子刻蝕機產(chǎn)品特點(diǎn)：

    • 鋁質(zhì)腔體或不銹鋼腔體

    • 不銹鋼立柜

    • 能夠刻蝕硅的化合物(~400? /min)以及金屬

    • 典型的硅刻蝕速率，400 ?/min

    • 高達12"的陽(yáng)極氧化鋁RF樣品臺

    • 水冷及加熱的RF樣品臺

    • 大的自偏壓

    • 淋浴頭氣流分布

    • 極限真空5x10-7Torr，20分鐘內可以達到10-6Torr級別

    • 渦輪分子泵

    • 最多支持5個(gè)MFC

    • 無(wú)繞曲氣體管路

    • 自動(dòng)下游壓力控制

    • 雙刻蝕能力：RIE以及PE刻蝕(可選)

    • 終點(diǎn)監測

    • 氣動(dòng)升降頂蓋

    • 自動(dòng)上下載片

    • 預真空鎖

    • 基于LabView軟件的PC計算機全自動(dòng)控制

    • 菜單驅動(dòng)，4級密碼訪(fǎng)問(wèn)保護

    • 的安全聯(lián)鎖

    • 可選ICP離子源以及低溫冷卻樣品臺，用于深硅刻蝕

    NRE-3500（A）全自動(dòng)RIE反應離子刻蝕機產(chǎn)品型號：

    • NRE-4000：基于PC計算機全自動(dòng)控制的獨立式系統，占地面積26“D x 44"W

    • NRE-3500：基于PC計算機全自動(dòng)控制的緊湊型獨立式系統，占地面積26“D x 26"W

    • NRE-3000：基于PC計算機全自動(dòng)控制的臺式系統，占地面積26“D x 26"W

    • NRP-4000：RIE/PECVD雙系統

    • NDR-4000：深RIE刻蝕(深硅刻蝕)系統



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