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    MicroChem 電子束光刻膠 PMMA

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    PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）是一種通用的聚合材料，適用于許多成像和非成像微電子系統。PMMA光刻膠是將PMMA聚合物溶解在諸如苯甲醚之類(lèi)的安全溶劑中，曝光會(huì )導致聚合物鏈斷裂。PMMA作直寫(xiě)式電子束的高分辨率正性光刻膠，它具有的分辨率，易于處理和出色的薄膜特性。PMMA還可用作晶圓薄化的保護涂層，粘結粘合劑和刻蝕層。

    詳細介紹

    PMMA正性光刻膠

    PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）是一種通用的聚合材料，適用于許多成像和非成像微電子系統。PMMA光刻膠是將PMMA聚合物溶解在諸如苯甲醚之類(lèi)的安全溶劑中，曝光會(huì )導致聚合物鏈斷裂。PMMA作直寫(xiě)式電子束的高分辨率正性光刻膠，它具有的分辨率，易于處理和出色的薄膜特性。PMMA還可用作晶圓薄化的保護涂層，粘結粘合劑和刻蝕層。

    材料用途：

    • 晶圓減薄

    • 防護涂料

    • PHEMT

    • 多層T門(mén)工藝

    • 其他直寫(xiě)式電子束工藝

    		MicroChem PMMA電子束光刻膠 495PMMA 950PMMA

    材質(zhì)屬性：

    • 正調

    • 電子束和X射線(xiàn)可成像

    • 膜厚范圍廣

    • 對大多數基材具有出色的附著(zhù)力

    共聚物光刻膠是基于PMMA和?8.5％甲基丙烯酸的混合物。共聚物MMA（8.5）通常與PMMA結合使用在雙層剝離抗蝕劑工藝中，該工藝需要獨立控制CD尺寸和每個(gè)光刻膠層的形狀。標準共聚物光刻膠是在乳酸乙酯中配制的，并且可以在很寬的膜厚范圍內使用。


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